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恭喜中国科学院微电子研究所沙鹏飞获国家专利权

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龙图腾网恭喜中国科学院微电子研究所申请的专利一种掩模缺陷检测系统获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114442423B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-18发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210009610.2,技术领域涉及:G03F1/84;该发明授权一种掩模缺陷检测系统是由沙鹏飞;吴晓斌;王魁波;马翔宇;尹皓玉;方旭晨;谢婉露;韩晓泉;李慧;罗艳;马赫;谭芳蕊设计研发完成,并于2022-01-05向国家知识产权局提交的专利申请。

一种掩模缺陷检测系统在说明书摘要公布了:本公开涉及一种掩模缺陷检测系统,包括:真空腔体和隔振平台,所述真空腔体位于所述隔振平台上方,还包括:激光器,用于作为系统光源产生激光;光束整形系统,用于对所述激光进行光束整形;退相干反射镜,用于实现对所述激光的退相干;光瞳转换轮,用于光瞳选择;波带片,用于对掩模上的缺陷进行成像,法兰,用于实现腔体之间的密封连接;四爪狭缝,用于对照明光斑的尺寸进行微调;所述退相干反射镜、所述光瞳转换轮以及所述波带片位于所述真空腔体内;所述激光器产生的激光依次经过所述光束整形系统、所述法兰及四爪狭缝、所述退相干反射镜和所述光瞳转换轮,照射到掩模上进行掩模缺陷检测。

本发明授权一种掩模缺陷检测系统在权利要求书中公布了:1.一种掩模缺陷检测系统,包括:真空腔体和隔振平台,所述真空腔体位于所述隔振平台上方,其特征在于,还包括:激光器,用于作为系统光源产生激光;光束整形系统,用于对所述激光进行光束整形;退相干反射镜,用于实现对所述激光的退相干;光瞳转换轮,用于光瞳选择;波带片,用于对掩模上的缺陷进行成像;法兰,用于实现腔体之间的密封连接;四爪狭缝,位于法兰和所述退相干反射镜之间,用于对光束整形后的光进行光斑尺寸微调;所述退相干反射镜、所述光瞳转换轮以及所述波带片位于所述真空腔体内;所述退相干反射镜的反射面上具有周期性的阶梯或者凹槽形状的子反射面;所述激光器产生的激光依次经过所述光束整形系统、所述法兰、所述四爪狭缝、所述退相干反射镜和所述光瞳转换轮,照射到掩模上进行掩模缺陷检测。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人中国科学院微电子研究所,其通讯地址为:100029 北京市朝阳区北土城西路3号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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