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龙图腾网恭喜强一半导体(上海)有限公司;湖北江城实验室申请的专利一种晶圆平坦化工序中作为连接件的双面吸附装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114248199B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111421851.X，技术领域涉及：B24B37/30；该发明授权一种晶圆平坦化工序中作为连接件的双面吸附装置是由于海超;汪松;李尧尧;周明设计研发完成，并于2021-11-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种晶圆平坦化工序中作为连接件的双面吸附装置在说明书摘要公布了：一种晶圆平坦化工序中作为连接件的双面吸附装置，包括具有一定厚度的吸附本体，具有上下两个端面。吸附本体的上端面作为吸附抛光头的上吸附区，下端面作为吸附晶圆的下吸附区；内部设有气流通道。上吸附区开设有多组同心圆凹槽，圆凹槽均与气流通道连通；下吸附区开设有多个吸附孔，吸附孔均与气流通道连通；吸附孔呈同心圆状分布，同一圈上相邻两吸附孔之间的间距相同，且该间距由内圈向外圈梯度递减；下吸附区的边缘处设有密封圈，下端面向下凸出，作为晶圆的定位环，凸出段与下吸附区共同界定形成一用于安装晶圆的空间，凸出段的下端面高于或者持平于晶圆的下端面；密封圈与最外层吸附孔之间设有一隔离槽，隔离槽与气流通道连通。

本发明授权一种晶圆平坦化工序中作为连接件的双面吸附装置在权利要求书中公布了：1.一种晶圆平坦化工序中作为连接件的双面吸附装置，其特征在于：所述双面吸附装置包括具有一定厚度的吸附本体（1），定义所述吸附本体（1）的厚度方向为上下方向；所述吸附本体（1）具有上下两个端面；所述吸附本体（1）的上端面作为吸附抛光头（4）的上吸附区（2），所述吸附本体（1）的下端面作为吸附晶圆（5）的下吸附区（3）；所述吸附本体（1）内部设有气流通道（6），该气流通道（6）开设有一用于连通真空发生器的抽真空口（7）；所述上吸附区（2）开设有多组同心圆凹槽（8），每个所述圆凹槽（8）均与所述气流通道（6）连通；所述下吸附区（3）开设有多个吸附孔（9），每个所述吸附孔（9）均与所述气流通道（6）连通；所述吸附孔（9）在下吸附区（3）上呈同心圆状分布，且同一圈上相邻两所述吸附孔（9）之间的间距相同，且该间距由同心圆的内圈向外圈梯度递减；所述气流通道（6）、所述圆凹槽（8）和所述吸附孔（9）共同界定形成真空腔；所述下吸附区（3）的边缘处设有一密封圈（10），且该密封圈（10）的下端面相对所述下吸附区（3）向下凸出，所述密封圈（10）的凸出段作为所述晶圆（5）的定位环，且所述密封圈（10）的凸出段与所述下吸附区（3）共同界定形成一用于安装所述晶圆（5）的空间，且所述密封圈（10）凸出段的下端面高于或者持平于所述晶圆（5）的下端面；所述密封圈（10）与最外层吸附孔（9）之间设有一隔离槽（11），所述隔离槽（11）与所述气流通道（6）连通。

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