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龙图腾网恭喜青岛高测科技股份有限公司申请的专利一种晶硅切片机主轴非接触密封结构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112081924B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011006436.3，技术领域涉及：F16J15/34；该发明授权一种晶硅切片机主轴非接触密封结构是由鹿慧丰;王海超;仇健设计研发完成，并于2020-09-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种晶硅切片机主轴非接触密封结构在说明书摘要公布了：本发明公开了一种晶硅切片机主轴非接触密封结构，涉及主轴密封的技术领域，其技术方案要点是包括主轴外套；密封静环；以及密封动环，其固定在主轴芯轴上；密封静环与密封动环之间形成气幕间隙和排污腔，排污腔位于气幕间隙靠近零部件安装空间一侧，气幕间隙与外界连通，密封静环上开设有用于对气幕间隙供气的静环供气孔，密封静环上开设有用于将排污腔中的污染杂质排出的静环排污孔；将高压气体通入到静环供气孔当中，供气孔将气体送入到气幕间隙中，一部分气体在气幕间隙中形成向外吹拂的气幕，一部分进入到排污腔中，气幕能够阻挡污染杂质进入密封静环和密封动环之间，向排污腔内吹的气体，能够将进入突破气幕进入排污腔中的杂质通过静环排污孔吹出。

本发明授权一种晶硅切片机主轴非接触密封结构在权利要求书中公布了：1.一种晶硅切片机主轴非接触密封结构，其特征在于：包括主轴外套，其套设在主轴芯轴外侧，用于对主轴芯轴进行支撑；密封静环，其固定在主轴外套靠近主轴芯轴端部的一侧；以及密封动环，其固定在主轴芯轴上；密封静环与密封动环之间形成气幕间隙和排污腔，排污腔位于气幕间隙靠近零部件安装空间一侧，气幕间隙与外界连通，密封静环上开设有用于对气幕间隙供气的静环供气孔，密封静环上开设有用于将排污腔中的污染杂质排出的静环排污孔，所述密封静环与主轴外套之间设置有法兰，法兰上开设有与静环排污孔相互连通的法兰排污孔，主轴外套上开设有与法兰排污孔相互连通的主轴外套排污孔；将高压气体通入到静环供气孔中，供气孔将气体送入气幕间隙中，一部分气体在气幕间隙中形成向外吹拂的气幕，一部分进入排污腔中，气幕能够阻挡污染杂质进入密封静环和密封动环之间，向排污腔内吹的气体能够将突破气幕进入排污腔中的杂质通过静环排污孔吹出。

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