恭喜SK新技术株式会社;爱思开高新信息电子材料株式会社金惠璃获国家专利权
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龙图腾网恭喜SK新技术株式会社;爱思开高新信息电子材料株式会社申请的专利聚酰胺酰亚胺膜获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN112280068B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-18发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202010718752.7,技术领域涉及:C08J5/18;该发明授权聚酰胺酰亚胺膜是由金惠璃;朴珉相;朴相胤;丁知相设计研发完成,并于2020-07-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本聚酰胺酰亚胺膜在说明书摘要公布了:本发明提供一种具有优异的双折射率值均匀性且可提供优异的显示品质的聚酰胺酰亚胺膜。
本发明授权聚酰胺酰亚胺膜在权利要求书中公布了:1.一种聚酰胺酰亚胺膜,其在横向上的光弹性系数小于2.0×10-8m2N,并且具有面内双折射率值Δnin满足以下关系式1和关系式2的波长分散性:[关系式1]1.0Δnin450nmΔnin550nm1.3[关系式2]0.7Δnin650nmΔnin550nm1.0其中Δnin450nm、Δnin550nm和Δnin650nm分别是在450nm、550nm和650nm的波长处测得的面内双折射率值,其中,所述聚酰胺酰亚胺膜在第一干燥工艺中进行了干燥,并在第二干燥工艺中在三个以上拉伸区域内同时进行了拉伸和干燥,其中,所述聚酰胺酰亚胺膜衍生自包括二酐、二胺和芳族二酰氯的单体混合物,所述二胺为2,2’-双三氟甲基联苯胺,所述二酐为4,4’-六氟异亚丙基二邻苯二甲酸酐或1,2,3,4-环丁烷四羧酸二酐,所述芳族二酰氯为对苯二甲酰氯或间苯二甲酰氯。
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