恭喜沈阳芯源微电子设备股份有限公司陈兴隆获国家专利权
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龙图腾网恭喜沈阳芯源微电子设备股份有限公司申请的专利一种防止反溅液体污染基板的装置及方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN112542397B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-18发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:201910891034.7,技术领域涉及:H01L21/67;该发明授权一种防止反溅液体污染基板的装置及方法是由陈兴隆;郑云龙设计研发完成,并于2019-09-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种防止反溅液体污染基板的装置及方法在说明书摘要公布了:本发明属于半导体行业基板湿法处理领域,具体地说是一种防止反溅液体污染基板的装置及方法,喷嘴上安装有防溅罩,防溅罩的上端与喷嘴相连,下端为开放结构,防溅罩上开设有至少一个进液管,进液管连接有进液管路A,通过进液管路A向防溅罩内部输送液体A,液体A在防溅罩的内表面形成有液体膜;喷嘴向基板表面喷洒液体B,在基板表面形成反溅的液体B反溅至液体膜,并随液体膜流到基板表面,随基板的旋转脱离基板。本发明可以防止喷嘴喷洒出的液体B飞溅至升降CUP外部,避免影响工艺单元湿度,并可以防止反溅液体对工艺单元造成腐蚀;同时,本发明可防止反溅的液体B残留在喷嘴或防溅罩的内表面,避免在后续工艺中对基板造成二次污染。
本发明授权一种防止反溅液体污染基板的装置及方法在权利要求书中公布了:1.一种防止反溅液体污染基板的装置,包括电机、承载台、升降CUP、喷嘴及摆臂,其中电机的输出端与承载台相连、驱动承载台旋转,该承载台上放置有随承载台旋转的基板,所述电机外围设有可升降的升降CUP;所述喷嘴通过摆臂的带动在升降CUP内侧与外侧之间移动,该喷嘴连接有进液管路B,通过所述进液管路B向喷嘴输送对基板进行工艺处理的液体B;其特征在于:所述喷嘴(4)上安装有防溅罩(6),该防溅罩(6)的上端与喷嘴(4)相连,下端为开放结构,所述防溅罩(6)上开设有至少一个进液管(7),进液管(7)连接有进液管路A,通过该进液管路A向所述防溅罩(6)内部输送液体A,液体A在防溅罩(6)的内表面形成有液体膜(11);所述喷嘴(4)向基板(12)表面喷洒液体B,在基板(12)表面形成反溅的液体B反溅至所述液体膜(11),并随液体膜(11)流到基板(12)表面,随基板(12)的旋转脱离基板(12)。
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