恭喜应用材料公司S·S·罗伊获国家专利权
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龙图腾网恭喜应用材料公司申请的专利无衬垫连续非晶金属膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112640086B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980057396.4，技术领域涉及：H01L21/768；该发明授权无衬垫连续非晶金属膜是由S·S·罗伊;巫勇;S·冈迪科塔设计研发完成，并于2019-10-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本无衬垫连续非晶金属膜在说明书摘要公布了：本文描述的实施例总体上涉及沉积薄膜的方法，并且更具体地，涉及沉积金属薄膜。本文的方法提供了无成核转化nucleationfreeconversion；NFC方法，此方法涉及在介电层之上形成非晶硅层，并执行NFC工艺，所述NFC工艺用于将非晶硅层转化成金属薄膜。在一些实施例中，多次执行NFC工艺，直到所得的薄金属膜是连续的。在薄金属膜之上形成块状金属。
本发明授权无衬垫连续非晶金属膜在权利要求书中公布了：1.一种填充形成在基板的表面上的特征的方法，包含：在形成在所述基板的所述表面上的所述特征上形成连续的金属层，其中形成所述连续的金属层的工艺包含：a在所述特征的暴露表面上形成非晶硅层；b将所形成的非晶硅层转化成金属薄膜，所述金属薄膜是不连续的，其中转化所述非晶硅层的所述工艺包含将所述非晶硅层暴露于含金属的前驱物，直到所述非晶硅层中的基本上所有硅原子被替换为在所述含金属的前驱物中发现的一个或多个金属原子，其中所述含金属的前驱物包括钨、钽、钼或钛；以及c重复a和b至少两次，直到在所述特征的所述表面上形成含有所述金属原子的连续薄膜并且所述连续薄膜在1埃和200埃之间，并且其中所述工艺在5托和20托之间的压力下执行；以及在所形成的连续薄膜之上形成块状金属层。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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