恭喜朗姆研究公司亚伦·贝尔克获国家专利权
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龙图腾网恭喜朗姆研究公司申请的专利用于高对流连续旋转镀覆的流辅助动态密封件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111819674B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980015698.5，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权用于高对流连续旋转镀覆的流辅助动态密封件是由亚伦·贝尔克;斯蒂芬·J·巴尼克;布莱恩·巴卡柳;罗伯特·拉什设计研发完成，并于2019-02-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于高对流连续旋转镀覆的流辅助动态密封件在说明书摘要公布了：一种用于电镀半导体晶片的设备包含被配置成围绕处理区域的嵌入构件。所述嵌入构件具有顶表面。所述嵌入构件的所述顶表面的一部分具有向上斜坡，其从所述嵌入构件的所述顶表面的周边区域朝所述处理区域向上倾斜。所述设备还包括密封构件，其具有环状盘的外形。所述密封构件被定位在所述嵌入构件的所述顶表面上。所述密封构件是挠性的，使得所述密封构件的径向外侧部与所述嵌入构件的所述顶表面的所述向上斜坡共形，并且使得所述密封构件的径向内侧部朝所述处理区域向内突出。
本发明授权用于高对流连续旋转镀覆的流辅助动态密封件在权利要求书中公布了：1.一种用于电镀半导体晶片的设备，其包含：嵌入构件，其被配置成围绕处理区域，所述嵌入构件具有顶表面，所述嵌入构件的所述顶表面的一部分具有向上斜坡，其从所述嵌入构件的所述顶表面的周边区域朝所述处理区域向上倾斜；以及密封构件，其具有环状盘的外形，所述密封构件被定位在所述嵌入构件的所述顶表面上，所述密封构件是挠性的，使得所述密封构件的径向外侧部与所述嵌入构件的所述顶表面的所述向上斜坡共形，并且使得所述密封构件的径向内侧部朝所述处理区域向内突出。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人朗姆研究公司，其通讯地址为：美国加利福尼亚州；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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