恭喜朗姆研究公司伊时塔克·卡里姆获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网恭喜朗姆研究公司申请的专利使用碳基膜空间选择性灰化改善沉积引起的CD不平衡的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111512413B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201880077280.2，技术领域涉及：H01L21/02；该发明授权使用碳基膜空间选择性灰化改善沉积引起的CD不平衡的方法是由伊时塔克·卡里姆;普尔凯特·阿加瓦尔;约瑟夫·R·阿贝尔;普鲁肖塔姆·库马尔;阿德里安·拉沃伊设计研发完成，并于2018-11-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本使用碳基膜空间选择性灰化改善沉积引起的CD不平衡的方法在说明书摘要公布了：提供了一种用于利用碳基沉积物在晶片上形成特征的方法。对所述碳基沉积物进行预调节，其中，所述预调节导致所述碳基沉积物中的一些的不均匀去除。通过原子层沉积工艺沉积氧化硅基材料的氧化物沉积物，其中所述沉积所述氧化物沉积物导致所述碳基沉积物中的一些的不均匀去除，其与通过所述预调节导致的所述碳基沉积物中的一些的不均匀去除互补。
本发明授权使用碳基膜空间选择性灰化改善沉积引起的CD不平衡的方法在权利要求书中公布了：1.一种用于利用碳基沉积物在晶片上形成特征的方法，其包括：对所述碳基沉积物进行预调节，其中，所述预调节导致所述碳基沉积物中的一些的不均匀去除；以及通过原子层沉积工艺沉积氧化硅基材料的氧化物沉积物，其中所述沉积所述氧化物沉积物导致所述碳基沉积物中的另一些的不均匀去除，其与通过所述预调节导致的所述碳基沉积物中的一些的不均匀去除互补。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人朗姆研究公司，其通讯地址为：美国加利福尼亚州；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号