恭喜JX金属株式会社村田周平获国家专利权
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龙图腾网恭喜JX金属株式会社申请的专利溅射靶及溅射靶的制造方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116261605B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-25发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202280006272.5,技术领域涉及:C23C14/34;该发明授权溅射靶及溅射靶的制造方法是由村田周平;岩渊将也;佐藤祐介设计研发完成,并于2022-06-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本溅射靶及溅射靶的制造方法在说明书摘要公布了:一种溅射靶,其是由包括靶材和基材的多个构成构件构成的溅射靶,所述多个构成构件包括彼此层叠的第一构成构件和第二构成构件,所述第一构成构件含有Al,并且所述第二构成构件含有Cu,所述第一构成构件和所述第二构成构件中的至少一方含有Mg,所述溅射靶在所述第一构成构件与所述第二构成构件之间具有合金层,所述合金层含有Al和Cu,并相接于所述第一构成构件和所述第二构成构,所述合金层在至少所述合金层的一部分还包括含有5.0at%以上的Mg的含Mg层。
本发明授权溅射靶及溅射靶的制造方法在权利要求书中公布了:1.一种溅射靶,其是由包括靶材和基材的多个构成构件构成的溅射靶,所述多个构成构件包括彼此层叠的第一构成构件和第二构成构件,所述第一构成构件含有Al,并且所述第二构成构件含有Cu,所述第一构成构件和所述第二构成构件中的至少一方含有Mg,所述溅射靶在所述第一构成构件与所述第二构成构件之间具有合金层,所述合金层含有Al和Cu,并相接于所述第一构成构件和所述第二构成构件,所述合金层在至少所述合金层的一部分包括还含有5.0at%以上的Mg的含Mg层。
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