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龙图腾网恭喜上海谙邦半导体设备有限公司申请的专利一种反应腔装置及其工作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112447487B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011491416.X，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权一种反应腔装置及其工作方法是由邱勇;吴堃;张鹏兵;陈世名设计研发完成，并于2020-12-17向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种反应腔装置及其工作方法在说明书摘要公布了：一种反应腔装置及其工作方法，反应腔装置包括：反应腔主体；位于反应腔主体内的晶圆承载平台，晶圆承载平台的表面适于放置晶圆；环绕晶圆承载平台的上缓冲环;位于上缓冲环的底部且环绕晶圆承载平台的下缓冲环；位于下缓冲环底部的若干分立的高度调节器，若干分立的高度调节器适于调节下缓冲环至所述上缓冲环之间不同区域的纵向距离。所述反应腔装置能够提高晶圆表面反应的均匀性和对称性。

本发明授权一种反应腔装置及其工作方法在权利要求书中公布了：1.一种反应腔装置，其特征在于，包括：反应腔主体；位于所述反应腔主体内的晶圆承载平台，所述晶圆承载平台的表面适于放置晶圆；环绕所述晶圆承载平台的上缓冲环；位于所述上缓冲环的底部且环绕所述晶圆承载平台的下缓冲环；位于所述下缓冲环底部的若干分立的高度调节器，所述若干分立的高度调节器适于调节所述下缓冲环至所述上缓冲环之间不同区域的纵向距离；所述上缓冲环与所述反应腔主体的内侧壁间隔；所述下缓冲环与所述晶圆承载平台间隔；所述上缓冲环在反应腔主体的底面的投影与所述下缓冲环在反应腔主体的底面的投影具有重叠区域；还包括：相互电连接的高度调节控制器和设备控制器，所述高度调节控制器分别与各所述高度调节器电连接；所述设备控制器适于对灰化反应速率分布的均匀性和不对称性进行评估，并根据评估结果计算出所述下缓冲环需要调节的高度和方向，然后将其反馈给所述高度调节控制器；所述高度调节控制器根据所述需要调节的高度和方向控制各所述高度调节器对所述下缓冲环进行各向异性的高度调节，使所述上缓冲环与所述下缓冲环之间的间距各向不均匀，实现对灰化反应速率分布的均匀性和对称性的同步调节。

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