恭喜洛克系统私人有限公司丁锺才获国家专利权
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龙图腾网恭喜洛克系统私人有限公司申请的专利改进的溅射处理和装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111653503B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010135380.5，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权改进的溅射处理和装置是由丁锺才;申允锡;张德春设计研发完成，并于2020-03-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本改进的溅射处理和装置在说明书摘要公布了：一种用于溅射多个IC单元的方法，该方法包括以下步骤：向保持环施加层；在该层中切割孔的阵列；将保持环转移至模板，该模板位于放置站内；将所述孔的阵列与所述模板中的凹口的阵列对准；将IC单元传送至所述保持环，每个IC单元对应于对准的孔和凹口；以及向与所述保持环接合的所述IC单元施加溅射方法。
本发明授权改进的溅射处理和装置在权利要求书中公布了：1.一种用于溅射多个IC单元的方法，所述方法包括以下步骤：向放置站的保持环施加粘附层和子胶带，使得所述子胶带被布置成附接在所述粘附层下方；在所述粘附层和所述子胶带中切割孔的阵列；将所述保持环转移至模板，所述模板位于所述放置站内；将所述孔的阵列与所述模板中的凹口的阵列对准；将IC单元传送至所述保持环，每个IC单元对应于对准的孔和凹口；以及向与所述保持环接合的所述IC单元施加溅射方法。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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