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龙图腾网恭喜科磊股份有限公司申请的专利具有倾斜周期性结构的计量目标及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111542784B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201880085027.1，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权具有倾斜周期性结构的计量目标及方法是由F·约埃尔;M·吉诺乌克;A·斯维泽尔;V·莱温斯基;I·塔尔西斯-沙皮尔设计研发完成，并于2018-11-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本具有倾斜周期性结构的计量目标及方法在说明书摘要公布了：本发明揭示计量目标、其设计方法及测量方法，所述目标具备相对于光刻工具的正交产生轴X及Y倾斜的周期性结构，从而实现具有对角线倾斜obliquetilted元件的装置例如DRAM装置的更准确叠加测量。一或多个倾斜周期性结构可用于提供关于一或多个层的一维或二维信号，从而可能提供针对应用到一个层的多个步骤的叠加测量。所述倾斜周期性结构可用于修改当前计量目标设计例如，成像目标及或散射测量目标或设计新的目标，且可分别调整测量算法以从所述倾斜周期性结构导出信号及或提供其预处理图像。所揭示的目标是过程兼容的且更准确地反映关于各种过程步骤的装置叠加。

本发明授权具有倾斜周期性结构的计量目标及方法在权利要求书中公布了：1.一种计量目标，其包括多个周期性结构，其中所述多个周期性结构中的每一者包括具有长尺寸和短尺寸的重复性元件，所述周期性结构的第一者和所述周期性结构的第二者中的一者经设置为所述计量目标的内部周期性结构，且所述周期性结构的所述第一者和所述周期性结构的所述第二者中的另一者经设置为所述计量目标的外部周期性结构，其中所述外部周期性结构相对于所述内部周期性结构倾斜；其中第一方向上的所述外部周期性结构不平行于第二方向上的所述外部周期性结构，所述第一方向上的所述内部周期性结构正交于所述第二方向上的所述内部周期性结构，且所述第一方向不平行于所述第二方向；其中所述外部周期性结构相对于轴X及Y倾斜且沿着所述第一方向和所述第二方向是周期性的，且所述多个周期性结构中的至少两者并排放置；且其中不同的外部周期性结构设置在同一层。

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