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龙图腾网恭喜齐鲁工业大学(山东省科学院)申请的专利一种冰刀表面减阻复合镀膜工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116288342B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310248190.8，技术领域涉及：C23C28/00；该发明授权一种冰刀表面减阻复合镀膜工艺是由王守国;孙健;刘玮设计研发完成，并于2023-03-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种冰刀表面减阻复合镀膜工艺在说明书摘要公布了：本发明公开了一种冰刀表面减阻复合镀膜工艺，属于镀膜工艺技术领域，其包括在刀片基体的表面依次沉积Cr膜层、Cr‑WC膜层、WC膜层、DLC膜层和DLC‑Si膜层。本发明提供的冰刀表面减阻复合镀膜工艺，使冰刀表面性能达到膜层结合力大于30N，冰刀表面硬度大于1200HV，滑动摩擦系数小于0.1μ，表面疏水性要求的接触角在85℃以上，减少了在滑冰过程中冰刀与冰面的摩擦阻力，提高了滑冰速度。本发明为了实现冰刀表面镀膜后其材料整体内应力不改变，镀膜时在保证膜层质量的前提下，控制刀片基体的温度保持在80℃。

本发明授权一种冰刀表面减阻复合镀膜工艺在权利要求书中公布了：1.一种冰刀表面减阻复合镀膜工艺，其特征在于，在刀片基体的表面依次沉积Cr膜层、Cr-WC膜层、WC膜层、DLC膜层和DLC-Si膜层，各膜层的总厚度为2～2.5μm，表面接触角在85℃以上；膜层沉积步骤如下：1对刀片基体打磨抛光、超声清洗、丙酮清洗、无水乙醇清洗、烘干，使刀片基体表面清洁；其中，丙酮清洗15min，无水乙醇清洗15min；2将清洁好的刀片基体放置在真空镀膜设备内，将真空镀膜设备的本底真空度抽至1×10-3Pa，加热刀片基体使其温度保持在80℃；3对刀片基体进行等离子体清洗，工作气体为Ar和H2，Ar流量为250sccm，H2流量为50sccm，工作真空度为0.5Pa，基体偏压为900V，清洗时间为60min；4利用磁控溅射沉积Cr膜层打底：以Cr为靶材，工作气体为Ar，Ar的流量为150sccm，工作真空度为0.3Pa；5利用磁控溅射沉积Cr-WC膜层：同时以Cr和WC为靶材，工作气体为Ar，Ar流量为200sccm，工作真空度为0.5Pa，保持Cr靶溅射的状态下开启WC靶溅射，溅射时间为60-120min；6利用磁控溅射沉积WC膜层：关闭Cr靶溅射，只保留WC靶溅射，工作真空度为0.6Pa，基体偏压为80V，溅射时间为60-120min；7利用PECVD沉积DLC膜层：工作气体为C2H2，C2H2流量为230sccm，工作真空度为0.5Pa，基体偏压为800V，溅射时间为60-120min；8利用PECVD沉积DLC-Si膜层：工作气体为C2H2和C6H18Si2O，C2H2流量为230sccm，C6H18Si2O流量为100sccm，工作气压为0.5Pa，基体偏压为800V，溅射时间为60min。

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