恭喜华中科技大学乔瑜获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网恭喜华中科技大学申请的专利用于自维持阴燃反应的多孔填充材料结构及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115059921B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210593659.7，技术领域涉及：F23G5/44；该发明授权用于自维持阴燃反应的多孔填充材料结构及其应用是由乔瑜;何舟磊;冯超;胡博勋;谢雨霏;徐静颖设计研发完成，并于2022-05-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于自维持阴燃反应的多孔填充材料结构及其应用在说明书摘要公布了：本发明属于阴燃处理相关技术领域，其公开了一种用于自维持阴燃反应的多孔填充材料结构及其应用，所述结构包括：至少一条表面带有多个小通孔的微管结构，所述小通孔的孔径为0.8mm‑4mm。本申请的多孔微管结构一方面微管上的通孔可以满足阴燃反应中空气的通入和传播，另一方面微管结构自身的折叠间隙用于填充高含水有机固费，进而使得小孔与高含水有机固废接触，为其阴燃燃烧反应提供充足的氧气；再一方面，本申请中通孔的孔径较小可以阻碍高含水有机固废的渗入通气结构。
本发明授权用于自维持阴燃反应的多孔填充材料结构及其应用在权利要求书中公布了：1.一种用于自维持阴燃反应的多孔填充材料结构，其特征在于，所述结构包括：至少一条表面带有多个小通孔的微管结构，所述小通孔的孔径为0.8mm-4mm；所述微管结构为柔性材料，以使所述微管结构交错折叠于阴燃炉内。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人华中科技大学，其通讯地址为：430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号