恭喜无锡华润上华科技有限公司孙鹏飞获国家专利权
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龙图腾网恭喜无锡华润上华科技有限公司申请的专利光学临近修正方法、掩膜版、可读存储介质及计算机设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115480441B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110597797.8，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权光学临近修正方法、掩膜版、可读存储介质及计算机设备是由孙鹏飞;王谨恒;陈洁;朱斌;张剑;曹楠设计研发完成，并于2021-05-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学临近修正方法、掩膜版、可读存储介质及计算机设备在说明书摘要公布了：本发明涉及一种光学临近修正方法、掩膜版、可读存储介质及计算机设备，所述方法包括：获取掩膜版设计图形；根据OPC模型对所述掩膜版设计图形进行模拟，得到模拟曝光图形；从所述掩膜版设计图形中筛选出符合第一预设条件的台阶图形；计算所述模拟曝光图形与所述掩膜版设计图形的边缘放置误差，其中所述台阶图形处的边缘放置误差采用图形差值的平均值作为边缘放置误差的值；根据所述边缘放置误差对所述掩膜版设计图形进行调整，得到掩膜版制版图形。本发明筛选出jog图形，然后采用平均值作为jog处EPE的值，能够有效避免“bridge”或“pinch”的发生，从而提高OPC的修正精度，提高OPC修正效率，提高工艺窗口，降低工艺风险。
本发明授权光学临近修正方法、掩膜版、可读存储介质及计算机设备在权利要求书中公布了：1.一种光学临近修正方法，包括：获取掩膜版设计图形；根据OPC模型对所述掩膜版设计图形进行模拟，得到模拟曝光图形；从所述掩膜版设计图形中筛选出符合第一预设条件的台阶图形；计算所述模拟曝光图形与所述掩膜版设计图形的边缘放置误差，其中筛选出的台阶图形处的边缘放置误差采用图形差值的平均值作为边缘放置误差的值；根据所述边缘放置误差对所述掩膜版设计图形进行调整，得到掩膜版制版图形；其中，所述符合第一预设条件的台阶图形，是边长小于第一预设值且两端分别有一个凸角和一个凹角的短边，所述第一预设值为5nm～20nm。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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