恭喜之江实验室刘秋兰获国家专利权
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龙图腾网恭喜之江实验室申请的专利一种基于双光子吸收效应的成像方法和装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119270581B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411797928.7，技术领域涉及：G03F7/00；该发明授权一种基于双光子吸收效应的成像方法和装置是由刘秋兰;祁绩;朱大钊;杨臻垚;匡翠方设计研发完成，并于2024-12-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于双光子吸收效应的成像方法和装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于双光子吸收效应的成像方法和装置，其方法包括：（1）在样品中引入具有双光子吸收特性的光敏物质；（2）使用飞秒激光对样品进行精确聚焦，通过双光子吸收诱导微纳结构的形成；（3）对样品进行清洗，去除未反应的光敏物质，并使其风干；（4）将处理后的样品放回样品台，再次使用飞秒激光聚焦于样品上，激发双光子发光，接收荧光并汇聚至探测器，实现微纳结构的超分辨显微成像。本发明利用光敏物质的双光子聚合特性和荧光发光特性，可实现微纳结构的形成并对其进行成像，无需在样品中额外掺杂染料，简化了样品的材料成分。此外，本发明可利用同一飞秒激光同时实现超分辨结构构建与成像，有效简化了系统。
本发明授权一种基于双光子吸收效应的成像方法和装置在权利要求书中公布了：1.一种基于双光子吸收效应的成像方法，包括如下步骤：步骤1，制备光刻胶：在光刻胶单体中加入光引发剂步骤2，基于双光子吸收效应的激光直写：将一束飞秒激光经过物镜聚焦在光刻胶上，引发光刻胶产生双光子聚合，实现高精度微纳结构的激光直写；步骤3，显影：将刻写完的结构进行显影并风干操作；步骤4，基于双光子吸收效应的双光子显微成像：将风干的刻写结构放回到样品台上，将一束飞秒激光经过物镜聚焦于样品上，使其产生双光子激发，用物镜接受所激发的荧光，并再经过透镜汇聚到光电探测器上进行双光子成像，实现刻写结构的双光子超分辨显微成像。
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