恭喜苏州苏纳光电有限公司朱斌青获国家专利权
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龙图腾网恭喜苏州苏纳光电有限公司申请的专利槽中微透镜的制作方法及槽中微透镜结构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119247528B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411531420.2，技术领域涉及：G02B3/00；该发明授权槽中微透镜的制作方法及槽中微透镜结构是由朱斌青;朱涛;姜春阳;卢建娅设计研发完成，并于2024-10-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本槽中微透镜的制作方法及槽中微透镜结构在说明书摘要公布了：本发明公开了一种槽中微透镜的制作方法及槽中微透镜结构，通过三次刻蚀工艺完成微透镜的转移，实现槽中微透镜的制作，且能精确控制槽的深度，控制槽深误差范围在2μm之内，适用于槽深大于或等于50μm的超深槽中微透镜的制作。其中，三次刻蚀工艺包括一次稳态刻蚀和两次深硅刻蚀，稳态刻蚀可以实现微透镜的转移，第一次深硅刻蚀采用快速率刻蚀可以快速形成槽结构轮廓，第二次深硅刻蚀采用慢速率刻蚀实现槽结构深度的精准控制。
本发明授权槽中微透镜的制作方法及槽中微透镜结构在权利要求书中公布了：1.一种槽中微透镜的制作方法，其特征在于，所述槽具有大于微透镜矢高的预设深度，所述制作方法包括：提供衬底，所述衬底具有第一表面，所述第一表面包括第一区域、环绕所述第一区域的第二区域和环绕所述第二区域的第三区域；在所述第一表面的第一区域上形成胶球微透镜面形；对所述胶球微透镜面形以及所述第一表面进行第一次刻蚀，将所述胶球微透镜面形复刻转移至所述衬底上，形成微透镜；在所述衬底形成有微透镜的一侧表面形成保护层；去除所述第一区域和第二区域的保护层以暴露出所述微透镜和衬底；对所述第一区域的微透镜和第二区域的衬底以第一刻蚀速率进行第二次刻蚀，形成槽中微透镜，其中，第二次刻蚀的深度小于所述预设深度；对所述第一区域的微透镜和第二区域的衬底以第二刻蚀速率进行第三次刻蚀，以使所述槽中微透镜中槽的深度达到所述预设深度，所述第二刻蚀速率小于所述第一刻蚀速率。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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