恭喜中国科学院上海光学精密机械研究所雷威获国家专利权
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龙图腾网恭喜中国科学院上海光学精密机械研究所申请的专利基于空间像主成分分析的极紫外光刻投影物镜波像差检测方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115219155B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210818753.8,技术领域涉及:G01M11/02;该发明授权基于空间像主成分分析的极紫外光刻投影物镜波像差检测方法是由雷威;李思坤;王向朝设计研发完成,并于2022-07-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于空间像主成分分析的极紫外光刻投影物镜波像差检测方法在说明书摘要公布了:基于空间像主成分分析的极紫外EUV光刻投影物镜波像差检测方法。本发明采用0°和90°两个方向的孤立空作为检测标记,通过主成分拟合得到实测空间像的主成分系数和波像差。所述方法首先是对仿真空间像集合进行主成分分析和线性回归得到主成分和回归矩阵,再将实测空间像与主成分拟合得到其对应的主成分系数。根据回归矩阵和主成分系数,采用最小二乘法拟合求解波像差。本发明首次将基于空间像主成分分析的光刻投影物镜波像差检测方法AMAI‑PCA拓展至EUV光刻,对掩模标记进行优化,减小三维掩模效应对像差检测的影响,具有过程快速、像差检测精度高的特点。
本发明授权基于空间像主成分分析的极紫外光刻投影物镜波像差检测方法在权利要求书中公布了:1.一种基于空间像主成分分析的极紫外光刻投影物镜波像差检测方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1.掩模标记的校正:①设置仿真条件:设置照明条件,传统照明的部分相干因子为σ,环形照明的部分相干因子为[σin,σout],σin表示内部相干因子,σout表示外部相干因子;设置投影物镜的数值孔径NA,掩模周期p,掩模标记为0度方向和90度方向的孤立空,且0度方向掩模标记的宽度w0,90度方向掩模标记的宽度w1,w0=w1;设置空间像垂轴方向采集长度x,垂轴取样间隔dx,采集范围与工件台中心对称,空间像轴向方向采集长度f,轴向取样间隔df,采集范围与轴向中心对称;②校正掩模标记:仿真一张不含像差的0度方向空间像,记为AI0;仿真一张不含像差的90度方向空间像,记为AI1;设定掩模成像图形尺寸CD的阈值T;对0度方向的空间像AI0和90度方向的空间像AI1分别使用阈值T确定0度方向的掩模成像图形尺寸CD0和90度方向的掩模成像图形尺寸CD1;将0度方向的掩模成像图形尺寸CD0和90度方向的掩模成像图形尺寸CD1之差,记为补偿量ΔCD,则对应的掩模标记的宽度补偿量Δw=4*ΔCD,90度方向掩模标记的宽度w1=w0+Δw;步骤2.空间像集合的获取:①设置投影物镜需要求解的6种波像差,分别为Z7~Z9和Z14~Z16,且每种波像差的幅值范围为[-a,a];②构建矩阵D:对于所述的6种波像差,利用Box_BehnkenDesign统计抽样生成54种组合,作为矩阵D的54行,以6种波像差作为矩阵D的6列;计算Zernike系数组合A,公式如下:A=a·D;③分别对0度方向和90度方向的掩模标记进行仿真,0度方向的54张空间像构成了0度方向的空间像集合IM0,90度方向的54张空间像构成了90度方向的空间像集合IM1;步骤3.主成分矩阵和回归矩阵的生成:①对0度方向的空间像集合IM0进行主成分分析,得到0度方向空间像对应的主成分矩阵PC0和主成分系数矩阵C0;对90度方向的空间像集合IM1进行主成分分析,得到90度方向空间像对应的主成分矩阵PC1和主成分系数矩阵C1;②对主成分系数矩阵C0和Zernike系数组合A进行线性回归分析,得到0度方向的回归矩阵RM0;对主成分系数矩阵C1和Zernike系数组合A进行线性回归分析,得到90度方向的回归矩阵RM1;步骤4.空间像的采集:对待检测光刻机的投影物镜的参数进行设置,照明、数值孔径、掩模周期及空间像扫描范围参数设置同步骤1,掩模标记采用校正后的宽度;启动光刻机,光源发出的照明光经过照明系统调制后得到对应的照明方式,照射到掩模台上的测试掩模,利用工件台带动空间像传感器完成实际的空间像的采集,即0度方向待测空间像和90度方向待测空间像;步骤5.空间像的拟合求解:①对主成分矩阵PC0进行拟合,得到0度方向待测空间像的主成分系数矩阵V0,公式如下:V0=PC0AIhor式中,AIhor为0度方向待测空间像中各像素点依次排列的列向量;对主成分矩阵PC1进行拟合,得到90度方向待测空间像的主成分系数矩阵V1,公式如下:V1=PC1AIver式中,AIver为90度方向待测空间像中各像素点依次排列的列向量;②根据回归矩阵RM0和RM1联立得到总的回归矩阵RM,公式如下: 根据主成分系数矩阵V0和V1,联立得到总的主成分系数矩阵V,公式如下: 对回归矩阵RM和主成分系数矩阵V进行最小二乘法拟合得到光刻机投影物镜波像差Z,公式如下:Z=RM\V。
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