恭喜北京宇航系统工程研究所王丛飞获国家专利权
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龙图腾网恭喜北京宇航系统工程研究所申请的专利一种采用激光成型的压差式阻隔结构及加工方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113919192B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111015217.6，技术领域涉及：G06F30/23；该发明授权一种采用激光成型的压差式阻隔结构及加工方法是由王丛飞;满满;许光;郑茂琦;张婷;叶超;薛立鹏;王洪锐设计研发完成，并于2021-08-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种采用激光成型的压差式阻隔结构及加工方法在说明书摘要公布了：一种采用激光成型的压差式阻隔结构，包含：膜片2、上挡圈3、下挡圈1；上挡圈3和下档圈1均为环形结构，共同压住膜片2的边缘；膜片2为反拱型结构，在拱内侧采用激光刻蚀加工十字型减弱槽；上挡圈3和下挡圈1与管路连接面设置密封槽，安装密封结构。本发明具有加工精度高、产品尺寸可测性、打开压力精确度高等特点，可应用于火箭动力系统的管路中，具有成品率高、产品一致性好等特点。
本发明授权一种采用激光成型的压差式阻隔结构及加工方法在权利要求书中公布了：1.一种采用激光成型的压差式阻隔结构，其特征在于，包含：膜片2、上挡圈3、下挡圈1；上挡圈3和下档圈1均为环形结构，共同压住膜片2的边缘；膜片2为反拱型结构，在拱内侧采用激光刻蚀加工十字型减弱槽；上挡圈3和下挡圈1与管路连接面设置密封槽，安装密封结构；上挡圈3和下挡圈1与膜片2采用电子束焊接成为整体；膜片2的初始参数通过经验公式计算得到，初试参数包括膜片2的厚度、起拱高度、刻痕剩余厚度；经验公式如下：失稳压力式中，K1为材料常数，A、B均为经验参数；S0为膜片厚度，H为起拱高度，d为起拱直径；通过有限元非线性稳定性分析进一步计算得到膜片参数，将材料非线性、刻痕剩余厚度、几何初始缺陷作为膜片设计参数进行有限元分析；通过有限元仿真分析的多轮迭代，从分析结果中得到最优的膜片设计参数，以此膜片设计参数为最终膜片尺寸，进行压差式阻隔结构的工艺试验验证。
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