恭喜长春禹衡光学有限公司苟敬德获国家专利权
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龙图腾网恭喜长春禹衡光学有限公司申请的专利反射式位移测量装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112902854B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110349859.3，技术领域涉及：G01B11/02；该发明授权反射式位移测量装置是由苟敬德;王洋;杨尚;赵尔瑞;李德胜设计研发完成，并于2021-03-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本反射式位移测量装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种反射式位移测量装置，包括：投影系统、指示光栅、反射标尺光栅和接收系统，投影系统发出的平行光入射到指示光栅，并经过指示光栅入射到反射标尺光栅的表面，再反射回指示光栅产生莫尔条纹投影到接收系统转换为电信号；指示光栅包括玻璃基材，在玻璃基材镀有吸光膜，在吸光膜上刻蚀有由振幅光栅和相位光栅组成的只拥有±1级衍射条纹的复振幅光栅。本发明提供的反射式位移测量装置能够在提高能使用率、降低光栅的制造难度的条件下获得理想的光强分布。
本发明授权反射式位移测量装置在权利要求书中公布了：1.一种反射式位移测量装置，其特征在于，包括：投影系统、指示光栅、反射标尺光栅和接收系统，所述投影系统包括光源和准直镜，所述光源用于发光，所述准直镜用于将光源发出的光转换为平行光，所述投影系统发出的平行光入射到所述指示光栅，并经过所述指示光栅入射到所述反射标尺光栅的表面，再反射回所述指示光栅产生莫尔条纹投影到所述接收系统转换为电信号；所述指示光栅包括玻璃基材，在所述玻璃基材镀有吸光膜，在所述吸光膜上刻蚀有由振幅光栅和相位光栅组成的只拥有±1级衍射条纹的复振幅光栅；在所述吸光膜上刻蚀有贯穿其厚度且等间距排布的第一沟槽形成所述振幅光栅，在相间隔的第一沟槽内向所述玻璃基材刻蚀第二沟槽形成所述相位光栅；所述第二沟槽的宽度为所述第一沟槽两侧的吸光膜长度的二倍。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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