买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网恭喜三星SDI株式会社申请的专利抗蚀剂底层组成物及使用所述组成物形成图案的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113396364B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080012809.X，技术领域涉及：G03F7/11；该发明授权抗蚀剂底层组成物及使用所述组成物形成图案的方法是由崔有廷;权纯亨;金旼秀;朴贤;裵信孝;白载烈设计研发完成，并于2020-03-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本抗蚀剂底层组成物及使用所述组成物形成图案的方法在说明书摘要公布了：本发明是有关于一种抗蚀剂底层组成物及一种使用所述组成物形成图案的方法。根据实施例，所述抗蚀剂底层组成物包含：聚合物，包括在末端处由化学式1表示的结构以及在主链中由化学式2表示的结构单元及由化学式3表示的结构单元；以及溶剂。化学式1至化学式3的定义与详细说明中所述的相同。

本发明授权抗蚀剂底层组成物及使用所述组成物形成图案的方法在权利要求书中公布了：1.一种抗蚀剂底层组成物，包含聚合物，包括在末端处由化学式1表示的结构以及在主链中由化学式2表示的结构单元及由化学式3表示的结构单元；以及溶剂：[化学式1] [化学式2] [化学式3] 其中，在化学式1至化学式3中，L1至L7独立地为单键、经取代或未经取代的C1至C30亚烷基、经取代或未经取代的C6至C30亚芳基、经取代或未经取代的C1至C30杂亚烷基、经取代或未经取代的C3至C20亚环烷基、经取代或未经取代的C2至C20杂亚环烷基、经取代或未经取代的C1至C30杂亚烯基、经取代或未经取代的C2至C30杂亚芳基、经取代或未经取代的C1至C30亚烯基、经取代或未经取代的C1至C30亚炔基或其组合，A为O、S、CO、COO、NRa或CONRb，B、C及D独立地为O、S、SO2、CO、COO、NRa或CONRb，B、C及D中的至少一者为S，n1、n2、n3及n4独立地为0至3的一个整数，其限制条件是n2、n3及n4中的至少一者为1或大于1的整数，Ra、Rb及R1至R3独立地为氢、氘、羟基、硫醇基、卤素、羧基、乙酰基、胺基、氰基、硝基、经取代或未经取代的C1至C30烷基、经取代或未经取代的C2至C30烯基、经取代或未经取代的C6至C30芳基、经取代或未经取代的C1至C10烷氧基、经取代或未经取代的C1至C30酰基或其组合，且*为连接点。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人三星SDI株式会社，其通讯地址为：韩国京畿道龙仁市器兴区贡税路150-20号(邮递区号:17084)；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。