恭喜朗姆研究公司包新宇获国家专利权
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龙图腾网恭喜朗姆研究公司申请的专利使用亚稳的活化自由基物质的原子层处理工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112673456B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980059258.X，技术领域涉及：H01L21/02；该发明授权使用亚稳的活化自由基物质的原子层处理工艺是由包新宇;方浩权设计研发完成，并于2019-08-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本使用亚稳的活化自由基物质的原子层处理工艺在说明书摘要公布了：一种衬底的暴露表面的处理方法包含使用清扫气体清扫衬底处理系统的第一室和第二室。气体分配装置设置在第一室与第二室之间。该方法包含使处理气体流至第二室但不流至第一室，以在设置于第二室中的衬底支撑件上的衬底的表面上产生吸附层。该方法包含停止处理气体向第二室流动。该方法包含使清扫气体流动以清扫第一室和第二室。该方法包含在使清扫气体流至第一室时，在第一室中激励等离子体以产生亚稳的活化自由基物质，并经由气体分配装置将该亚稳的活化自由基物质输送至第二室以表面活化吸附层。
本发明授权使用亚稳的活化自由基物质的原子层处理工艺在权利要求书中公布了：1.一种用于处理衬底的暴露表面的方法，其包含：a使用清扫气体清扫衬底处理系统的第一室和第二室，其中气体分配装置设置在所述第一室与所述第二室之间；b在a之后，使处理气体流至所述第二室但不流至所述第一室，以在设置于所述第二室中的衬底支撑件上的衬底的表面上产生吸附层；c停止所述处理气体向所述第二室流动；d使所述清扫气体流动，以清扫所述第一室和所述第二室；以及e在使所述清扫气体流至所述第一室时，在所述第一室中激励等离子体以产生亚稳的活化自由基物质，并经由所述气体分配装置将所述亚稳的活化自由基物质输送至所述第二室以表面活化所述吸附层；其中，所述气体分配装置限定充气腔且包括第一多个通孔和第二多个通孔，所述第一多个通孔是从所述气体分配装置的上表面至所述气体分配装置的下表面，所述第二多个通孔是从所述充气腔至所述下表面。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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