恭喜中国科学院上海技术物理研究所王振获国家专利权
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龙图腾网恭喜中国科学院上海技术物理研究所申请的专利一种从云母基底上转移二维薄膜的方法及前处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119767863B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510272059.4，技术领域涉及：H10F71/00；该发明授权一种从云母基底上转移二维薄膜的方法及前处理方法是由王振;段世坤;胡伟达;赵天歌;胡佳鹏;仲方;王鹏;何志平;姚碧霂设计研发完成，并于2025-03-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种从云母基底上转移二维薄膜的方法及前处理方法在说明书摘要公布了：本发明属于薄膜转移技术领域，具体涉及一种从云母基底上转移二维薄膜的方法及前处理方法。本发明先后利用酸性溶液和碱金属氯化盐溶液对云母基底进行处理，能够在不损伤二维薄膜的基础上，减弱云母基底对二维薄膜的结合力，显著提升二维薄膜转移的质量，减少了因转移引入的材料缺陷和晶格畸变，实现了便利、高效地转移高质量二维薄膜的目的。本发明提供的前处理方法适用于不同类型的二维薄膜的转移工艺，且转移成功率高、样品损伤小、成本低、效率快。
本发明授权一种从云母基底上转移二维薄膜的方法及前处理方法在权利要求书中公布了：1.一种从云母基底上转移二维薄膜的前处理方法，其特征在于，包括：将生长有二维薄膜的云母基底先在酸性溶液中进行第一浸渍，然后在碱金属氯化盐溶液中进行第二浸渍；所述酸性溶液不和二维薄膜发生反应。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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