恭喜陕西科技大学尉国栋获国家专利权
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龙图腾网恭喜陕西科技大学申请的专利基于黑磷-氧化石墨烯量子点的薄膜、忆阻器及制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114784186B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210379776.3，技术领域涉及：H10N70/20；该发明授权基于黑磷-氧化石墨烯量子点的薄膜、忆阻器及制备方法是由尉国栋;袁帅;苏莹;丁利苹设计研发完成，并于2022-04-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于黑磷-氧化石墨烯量子点的薄膜、忆阻器及制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供基于黑磷‑氧化石墨烯量子点的薄膜、忆阻器及制备方法，薄膜包括依次连接在一起的上层结构、中层结构和下层结构，上层结构和下层结构的材料均为氧化石墨烯纳米片，中层结构的材料为黑磷‑氧化石墨烯量子点复合物。上层结构和下层结构的氧化石墨烯纳米片可以很好的将中间层包覆住，这些氧化石墨烯纳米片中层结构上下表层的黑磷纳米片形成P‑C键。该薄膜制备简单，采用该薄膜制备的忆阻器，在自然环境中放置了3个月还能保持很好的性能。
本发明授权基于黑磷-氧化石墨烯量子点的薄膜、忆阻器及制备方法在权利要求书中公布了：1.基于黑磷-氧化石墨烯量子点的薄膜，其特征在于，包括依次连接在一起的上层结构、中层结构和下层结构，上层结构和下层结构的材料均为氧化石墨烯纳米片，中层结构的材料为黑磷-氧化石墨烯量子点复合物。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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