恭喜卡尔蔡司SMT有限责任公司J.霍恩获国家专利权
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龙图腾网恭喜卡尔蔡司SMT有限责任公司申请的专利光学装置和光刻设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113632010B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080023594.1，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权光学装置和光刻设备是由J.霍恩;S.里赫特设计研发完成，并于2020-03-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学装置和光刻设备在说明书摘要公布了：一种用于光刻设备100A、100B的光学装置200，具有：具有反射镜阵列204的微系统202，其中反射镜阵列204的相应反射镜206被设置成在其前侧208反射光刻设备100A、100B的工作光108A、108B并且还在其后侧220反射测量光束L、224；一个或多个辐射源222，设置在微系统202的外部并设置成提供相应的测量光束L、224；以及一个或多个传感器单元230、804、1200，设置成根据各自反射的测量光束L’、224’来感测相应反射镜206的倾斜角α。
本发明授权光学装置和光刻设备在权利要求书中公布了：1.一种用于光刻设备100A、100B的光学装置200，具有：微系统202，具有反射镜阵列204，其中所述反射镜阵列204的相应反射镜206被设置成在其前侧208反射所述光刻设备100A、100B的工作光108A、108B并且还在其后侧220反射测量光束L、224，一个或多个辐射源222、310，布置在所述微系统202的外部且在所述光学装置200的真空区域的外部，并被设置成提供相应的所述测量光束L、224，以及一个或多个传感器单元230、804、1200，被设置成根据相应反射的测量光束L’、224’感测相应反射镜206的倾斜角α，其中，所述微系统202具有基板210、300、1000和集成电路234。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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