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龙图腾网恭喜深圳市云在上半导体材料有限公司;湖北云在上半导体有限公司申请的专利一种化学气相沉积碳化硅环生产用沉积系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119776806B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510276537.9，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权一种化学气相沉积碳化硅环生产用沉积系统是由张桂华;刘畅设计研发完成，并于2025-03-10向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种化学气相沉积碳化硅环生产用沉积系统在说明书摘要公布了：一种化学气相沉积碳化硅环生产用沉积系统，涉及高端装备制造领域。所述化学气相沉积碳化硅环生产用沉积系统包括：炉体，炉体内具有反应腔室和加热模块；多个喷头组，均连接有气体管线；底盖，石墨支架安装在底盖的内底部，石墨支架用于支撑环形单晶衬底，石墨支架可拆卸；稳定机构，包括升降座，支撑臂固定在升降座上，夹持组件安装在支撑臂上；输送机构和抬升机构，通过喷头组将含有硅和碳的气体喷入炉体内，使含有硅和碳的气体能够快速且均匀散布至炉体内的反应腔室中，以确保碳化硅在环形单晶衬底上的沉积速率与均匀性，可拆卸的石墨支架由多个拼装柱、水平支撑杆和卡针组合形成，通过调整拼装柱的数量，进而减小石墨支架对气流的影响。

本发明授权一种化学气相沉积碳化硅环生产用沉积系统在权利要求书中公布了：1.一种化学气相沉积碳化硅环生产用沉积系统，其特征在于，包括： 炉体（1），所述炉体（1）内具有反应腔室，所述炉体（1）内还设置有用于向所述反应腔室提供热能的加热模块； 喷头组（3），所述喷头组（3）设置有多个，多个所述喷头组（3）穿过所述炉体（1）并且固定在所述炉体（1）的侧壁上，多个所述喷头组（3）均连接有气体管线，所述气体管线通过喷头组（3）向所述反应腔室内输送气体； 底盖（4），所述底盖（4）用于对所述炉体（1）的底部进行密封； 多个石墨支架（5）和多个环形单晶衬底（6），多个石墨支架（5）安装在所述底盖（4）的内底部，石墨支架（5）用于支撑环形单晶衬底（6），石墨支架（5）可拆卸，当底盖（4）与炉体（1）连接后，石墨支架（5）和环形单晶衬底（6）均位于反应腔室内； 稳定机构，所述稳定机构包括升降座（7）、支撑臂（8）和夹持组件（9），所述支撑臂（8）固定在所述升降座（7）上，所述夹持组件（9）安装在所述支撑臂（8）上，当组装所述石墨支架（5）时，通过升降座（7）带动所述夹持组件（9）上下移动，以便对石墨支架（5）的不同部位进行支撑；所述夹持组件（9）包括内齿环（19）、外齿环（20）、齿环支架（21）、齿轮组（22）、多个固定轴（23）和多个夹头（24），所述内齿环（19）和外齿环（20）用于带动所述夹头（24）夹紧或松开所述石墨支架（5）； 输送机构（10）和抬升机构（11），所述输送机构（10）用于将所述底盖（4）运送至炉体（1）的下方，所述抬升机构（11）用于将底盖（4）抬升至与炉体（1）的底部卡合。

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