河北海伟电子新材料科技股份有限公司宋文兰获国家专利权
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龙图腾网获悉河北海伟电子新材料科技股份有限公司申请的专利金属化薄膜、制备方法及用途获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116288343B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310356688.6，技术领域涉及：C23C28/00；该发明授权金属化薄膜、制备方法及用途是由宋文兰设计研发完成，并于2023-04-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本金属化薄膜、制备方法及用途在说明书摘要公布了：本发明涉及金属化薄膜技术领域，具体涉及一种金属化薄膜、制备方法及用途，所述金属化薄膜，包括基底层、过渡层以及敷铜层；所述过渡层位于所述基底层、敷铜层之间，所述敷铜层利用激光扫描法在所述过渡层上加工得到。所述过渡层为氧化铝层，采用真空蒸镀方式在预处理后的基底层表面形成过渡层，包括：对基底层表面进行镀铝处理，之后在镀铝层表面持续通入氧化气，以在基底层表面形成氧化铝层。上述技术方案在基底层上形成过渡层，并在过渡层上形成敷铜层，提高了基底层与敷铜层间的结合力，采用激光扫描法形成的铜膜表面厚度均一，而且，利用激光扫描法形成敷铜层，无需离线操作，提高了生产效率。
本发明授权金属化薄膜、制备方法及用途在权利要求书中公布了：1.一种金属化薄膜，其特征在于，包括基底层、过渡层以及敷铜层；所述基底层为聚酯薄膜、聚丙烯薄膜或者聚酰亚胺薄膜；所述过渡层位于所述基底层、敷铜层之间，所述敷铜层利用激光扫描法在所述过渡层上加工得到；所述过渡层为氧化铝层，采用真空蒸镀方式在预处理后的基底层表面形成过渡层，包括：对基底层表面进行镀铝处理，之后在镀铝层表面持续通入氧化气，以在基底层表面形成氧化铝层；所述利用激光扫描法在过渡层上敷铜形成敷铜层，得金属化薄膜的步骤，包括：将铜浆料涂覆于过渡层上，待自然流平后，在烘箱中干燥；设置激光功率为30瓦，加工速率为90-100mms进行激光一次照射，时长为1-3分钟；之后设置激光功率为50瓦，加工速率为50-60mms进行激光二次照射，时长为5-10分钟，从而在过渡层上敷铜形成敷铜层，得金属化薄膜。
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