恭喜北京科技大学庞晓露获国家专利权
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龙图腾网恭喜北京科技大学申请的专利在陶瓷涂层中形成具有可调体积分数的纳米孪晶区获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115812002B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180017613.4，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权在陶瓷涂层中形成具有可调体积分数的纳米孪晶区是由庞晓露;郭涛;高克玮设计研发完成，并于2021-07-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本在陶瓷涂层中形成具有可调体积分数的纳米孪晶区在说明书摘要公布了：在一般方面，本申请公开了一种制造具有可调体积分数的纳米孪晶区的陶瓷薄膜。在一些方面，本申请公开了一种用于在真空室中的衬底的表面上制造陶瓷薄膜的方法。陶瓷薄膜包括多个晶粒；每个晶粒包括一个或多个纳米孪晶区。一个或多个纳米孪晶区的体积分数在陶瓷薄膜的30～80％的范围内。所述陶瓷薄膜包括钛、氮和硼。准备包括多种溅射材料的多个靶。在真空室中形成气体气氛。向多个靶供应电能以引起多种溅射材料的共溅射，从而形成具有一个或多个纳米孪晶区的陶瓷薄膜。
本发明授权在陶瓷涂层中形成具有可调体积分数的纳米孪晶区在权利要求书中公布了：1.一种在真空室中的衬底的表面上制造陶瓷薄膜的方法，所述陶瓷薄膜包括多个晶粒，其中，所述多个晶粒的每一个包括一个或多个纳米孪晶区，所述纳米孪晶区的体积分数在所述陶瓷薄膜的30～80％的范围内，所述陶瓷薄膜包括钛、氮和硼，所述方法包括：提供包括多种溅射材料的多个靶； 在所述真空室中形成气体气氛；和 向所述多个靶供应电能以引起所述多种溅射材料的共溅射，从而形成包括所述一个或多个纳米孪晶区的所述陶瓷薄膜。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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