恭喜台湾积体电路制造股份有限公司施旺成获国家专利权
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龙图腾网恭喜台湾积体电路制造股份有限公司申请的专利具有检视窗的光罩盒的结构及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113126426B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011549970.9，技术领域涉及：G03F1/66；该发明授权具有检视窗的光罩盒的结构及方法是由施旺成;张浩铭;黄崇洋;林政旻设计研发完成，并于2020-12-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本具有检视窗的光罩盒的结构及方法在说明书摘要公布了：本发明实施例涉及具有检视窗的光罩盒的结构及方法。本发明的一些实施例提供光罩盒的结构及方法。光罩盒包含经配置以支撑光罩的基座及可拆卸地耦合到所述基座的盖。所述盖包含窗，所述窗允许处于约400nm与约700nm之间的波长的辐射以大于70％的透射比通过。
本发明授权具有检视窗的光罩盒的结构及方法在权利要求书中公布了：1.一种制造光罩的方法，其包括： 提供光罩，所述光罩包括位于前一层上方的衬底、相移层、屏蔽层、掩膜层及光致抗蚀剂层； 执行第一操作，其中所述第一操作包括蚀刻所述掩膜层，以形成经图案化掩膜层； 将包括所述衬底、所述相移层、所述屏蔽层和所述经图案化掩膜层的所述光罩放置于光罩盒中，所述光罩盒包括基座及经配置以与所述基座形成密封空间的盖，且所述盖包括经配置以允许处于预定波长的辐射通过的窗； 通过所述窗而对所述经图案化掩膜层执行第一检视操作，其中所述第一检视操作包括检视所述经图案化掩膜层是否发生缺陷；及 执行以下操作以完成所述光罩： 响应于未发现缺陷通过所述经图案化掩膜层来蚀刻所述屏蔽层，以形成经图案化屏蔽层；及 将所述经图案化屏蔽层上的图案转印到工件而执行光刻操作。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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