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龙图腾网恭喜中央民族大学申请的专利一种制备聚对二甲苯薄膜的装置及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111424262B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010232026.4，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权一种制备聚对二甲苯薄膜的装置及方法是由耿照新;王朝阳设计研发完成，并于2020-03-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种制备聚对二甲苯薄膜的装置及方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种制备聚对二甲苯薄膜的装置及方法。所述装置包括支架台及置于支架台台面用于沉积聚对二甲苯薄膜的基片，还包括扣于所述基片上方的多孔导流罩；所述多孔导流罩与所述支架台台面之间形成可供气体流通的中空腔体；本发明通过设置多孔导流罩，使得聚对二甲苯薄膜能够致密性生长，有效解决了现有技术中聚对二甲苯薄膜表面粗糙、不平整、坏点率高、致密性差等问题。所述制备聚对二甲苯薄膜的方法，利用所述装置进行化学气相沉积。本发明通过对装置以及工艺的优化，提高了成膜质量，降低了聚对二甲苯薄膜的坏点率，从而减少了柔性超材料基底的自身损耗，有效提高了超材料的性能。

本发明授权一种制备聚对二甲苯薄膜的装置及方法在权利要求书中公布了：1.一种制备聚对二甲苯薄膜的装置，包括支架台及置于支架台台面用于沉积聚对二甲苯薄膜的基片，其特征在于，还包括扣于所述基片上方的多孔导流罩；所述多孔导流罩与所述支架台台面之间形成可供气体流通的中空腔体； 所述多孔导流罩上设有均匀分布的气流孔；所述气流孔的直径为8mm，相邻两个所述气流孔的孔心距为13mm； 所述多孔导流罩的上下底面与所述基片平行；所述基片的上表面到所述多孔导流罩内壁顶部的距离为10～18mm； 所述多孔导流罩为一端封闭的直圆筒；所述多孔导流罩的高度为20～22mm，壁厚为1.5～2.5mm； 所述多孔导流罩开口一侧的底面积比所述基片的面积大20％～40％；或所述多孔导流罩的直径比所述基片的直径大20％～40％； 所述装置还包括：腔室； 在所述腔室内设有旋转台，所述支架台与所述旋转台、所述腔室下表面依次层叠设置； 在所述腔室内设有进气筒；在所述腔室下表面设有进气口和出气口，所述进气口与所述出气口相对设置，所述进气口与所述进气筒相连；所述进气筒上设有若干个直径为3mm的圆孔；气体通过进气口进入进气筒，再通过所述圆孔进入所述腔室； 所述进气筒上的圆孔开口方向朝向腔室内壁； 所述旋转台在气体进入腔室时保持旋转，所述基片与所述旋转台同步旋转。

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