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龙图腾网获悉河南科技大学申请的专利一种干涉方式产生高阶光学涡旋光束的掩模板设计方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115509003B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211248857.6，技术领域涉及：G02B27/00；该发明授权一种干涉方式产生高阶光学涡旋光束的掩模板设计方法是由台玉萍;王亚坤;李新忠设计研发完成，并于2022-10-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种干涉方式产生高阶光学涡旋光束的掩模板设计方法在说明书摘要公布了：一种干涉方式产生高阶光学涡旋光束的掩模板设计方法，将多个拉盖尔‑高斯光束的部分叠加，得到其空间重叠场的电场表达式；结合多个拉盖尔‑高斯光束的相位、振幅以及一个闪耀光栅，得到该掩模板的复透过率函数。本发明所设计的干涉方式产生高阶光学涡旋光束掩模板在远场产生拓扑荷值可控的高阶光学涡旋光束，该高阶光学涡旋光束受叠加的拉盖尔‑高斯光束决定，包括叠加光束的拓扑荷值决定高阶光学涡旋光束的拓扑荷值，叠加光束之间的权重因子决定高阶光学涡旋的强度分布，叠加光束的初始相位因子j决定高阶光学涡旋暗核的结构。本发明具有无接触产生以及小型化发展的特点，因而在光学微操纵、光通信、量子纠缠等领域具有重要的价值。

本发明授权一种干涉方式产生高阶光学涡旋光束的掩模板设计方法在权利要求书中公布了：1.一种干涉方式产生高阶光学涡旋光束的掩模板设计方法，其特征在于：步骤如下： S1、将多个拉盖尔-高斯光束的部分叠加，其空间重叠场的电场表达式可以表示为： 其中，r,φ表示坐标系；ω0为高斯光束束腰半径；N表示叠加光场的数量；表示第n个叠加光场的相位差因子，用于调节产生的单位光学涡旋的角向位置；Pn表示第n个叠加光场的权重因子，用于调节相邻叠加光场之间的叠加率；mn表示第n个叠加光场的拓扑荷值，用于确定产生的高阶光学涡旋光束的拓扑荷值，即l0＝mN-m1d，其中d表示相邻叠加光场之间的拓扑荷值之差d＝mn-mn-1；i表示虚数单位； S2、结合多个拉盖尔-高斯光束的相位、振幅以及一个闪耀光栅，得到所述干涉方式产生高阶光学涡旋光束的掩模板的复透过率函数，其复透过率函数具体表达式为： HOV＝|t|exp{i[anglet+D]} 其中，|·|表示对复振幅求模，angle·为求角向函数，i表示虚数单位； S3、基于该复透过率函数所描述的掩模板即为所述的干涉方式产生高阶光学涡旋光束掩模板。

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