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株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社中川裕治获国家专利权

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龙图腾网获悉株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社申请的专利磁头及磁记录装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116230025B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210926360.9,技术领域涉及:G11B5/187;该发明授权磁头及磁记录装置是由中川裕治;成田直幸;高岸雅幸;前田知幸;永泽鹤美设计研发完成,并于2022-08-03向国家知识产权局提交的专利申请。

磁头及磁记录装置在说明书摘要公布了:提供能够提高记录密度的磁头及磁记录装置。根据实施方式,磁头包括第1磁极、第2磁极和层叠体。层叠体包括第1磁性层~第4磁性层和第1非磁性层~第5非磁性层,第2非磁性层与第2磁性层及第1磁性层接触,第3非磁性层与第3磁性层及第2磁性层接触,第4非磁性层与第4磁性层及第3磁性层接触,沿着从第1磁极向第2磁极的第1方向的第4磁性层的第4厚度为沿着第1方向的第1磁性层的第1厚度的0.5倍以上且1.6倍以下,沿着第1方向的第2磁性层的第2厚度小于第1厚度。

本发明授权磁头及磁记录装置在权利要求书中公布了:1.一种磁头,具备: 第1磁极; 第2磁极;及 层叠体,设置于所述第1磁极与所述第2磁极之间, 所述层叠体包括: 第1磁性层; 第2磁性层,设置于所述第2磁极与所述第1磁性层之间; 第3磁性层,设置于所述第2磁极与所述第2磁性层之间; 第4磁性层,设置于所述第2磁极与所述第3磁性层之间; 第1非磁性层,设置于所述第1磁性层与所述第1磁极之间; 第2非磁性层,设置于所述第2磁性层与所述第1磁性层之间; 第3非磁性层,设置于所述第3磁性层与所述第2磁性层之间; 第4非磁性层,设置于所述第4磁性层与所述第3磁性层之间;及 第5非磁性层,设置于所述第2磁极与所述第4磁性层之间, 所述第2非磁性层与所述第2磁性层及所述第1磁性层接触, 所述第3非磁性层与所述第3磁性层及所述第2磁性层接触, 所述第4非磁性层与所述第4磁性层及所述第3磁性层接触, 沿着从所述第1磁极向所述第2磁极的第1方向的所述第4磁性层的第4厚度,为沿着所述第1方向的所述第1磁性层的第1厚度的0.5倍以上且1.6倍以下, 沿着所述第1方向的所述第2磁性层的第2厚度小于所述第1厚度。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社,其通讯地址为:日本东京都;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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