信越化学工业株式会社郡大佑获国家专利权
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龙图腾网获悉信越化学工业株式会社申请的专利有机膜形成材料、图案形成方法以及化合物及聚合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114675490B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111588128.0，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权有机膜形成材料、图案形成方法以及化合物及聚合物是由郡大佑;橘诚一郎;野中汐里设计研发完成，并于2021-12-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本有机膜形成材料、图案形成方法以及化合物及聚合物在说明书摘要公布了：本发明涉及有机膜形成材料、图案形成方法以及化合物及聚合物。本发明的课题为提供有机膜形成材料和适于有机膜形成材料的化合物及聚合物。该课题提供一种有机膜形成材料，其含有：A下式1表示的化合物及或具有下式4表示的重复单元的聚合物及B有机溶剂；该式1中，AR1、AR2、AR3、AR4、AR5及AR6为苯环或萘环，R1为下式2表示的基团中任一者。n表示1～2的整数，W为碳数2～50的2价有机基团；该式4中，AR1、AR2、AR3、AR4、AR5、AR6、R1、n及W和前述相同；R2、R3为氢原子或碳数1～20的有机基团，且R2与R3也可通过在分子内键结来形成环状有机基团。
本发明授权有机膜形成材料、图案形成方法以及化合物及聚合物在权利要求书中公布了：1.一种有机膜形成材料，其特征为含有： A下述通式1表示的化合物及或具有下述通式4表示的重复单元的聚合物，及 B有机溶剂； 该通式1中，AR1、AR2、AR3、AR4、AR5及AR6为苯环或萘环，R1为下式2表示的基团中任一者；n表示1～2的整数，W为下述[化17]所示的结构中的任一者； [化17] 虚线表示原子键； 该通式4中，AR1、AR2、AR3、AR4、AR5、AR6、R1、n及W和前述相同；R2、R3与它们键合的碳原子一起形成下述[化26]中的基团， [化26] 虚线表示原子键。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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