株式会社村田制作所岸本谕卓获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社村田制作所申请的专利压电装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115485869B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180028099.4，技术领域涉及：H10N30/87；该发明授权压电装置是由岸本谕卓设计研发完成，并于2021-04-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本压电装置在说明书摘要公布了：提供一种压电装置，在单晶压电体层130中的与基部110的一个主面111对置的第一对置面131形成有第一凹部132。单晶压电体层130在第一对置面131中的第一凹部132以外的部分与基部110的一个主面111接合。构成一对电极层的至少一部分且沿着单晶压电体层130的基部110侧延伸的下部电极层150的至少一部分位于第一凹部132内。下部电极层150中的与基部110的一个主面111对置的第二对置面151的表面粗糙度Ra比单晶压电体层130的第一对置面131的表面粗糙度Ra大。
本发明授权压电装置在权利要求书中公布了：1.一种压电装置，具备： 基部，其包括一个主面和位于与该一个主面相反的一侧的另一个主面；以及 层叠部，其层叠于所述基部的一个主面侧， 所述层叠部包括单晶压电体层和向该单晶压电体层施加电压的一对电极层， 在所述单晶压电体层中的与所述基部的所述一个主面对置的第一对置面形成有第一凹部， 所述单晶压电体层在所述第一对置面中的所述第一凹部以外的部分与所述基部的所述一个主面接合， 构成所述一对电极层的至少一部分且沿着所述单晶压电体层的基部侧延伸的下部电极层的至少一部分位于所述第一凹部内， 所述下部电极层中的与所述基部的所述一个主面对置的第二对置面的表面粗糙度Ra比所述单晶压电体层的所述第一对置面的表面粗糙度Ra大。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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