龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
申请/专利权人：沈阳芯源微电子设备股份有限公司
申请日：2023-06-08
公开（公告）日：2023-09-08
公开（公告）号：CN116721910A
主分类号：H01L21/027
分类号：H01L21/027;G03F7/40
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2023.09.26#实质审查的生效;2023.09.08#公开
摘要：本发明公开了一种改善lift‑off制程中显影截面光刻胶结构的方法，属于半导体光刻技术领域。该方法针对晶圆上涂敷负胶并曝光显影后的截面光刻胶结构改善，在曝光后烘烤工序中，采用的烘烤装置在保留原有盘面加热的基础上增加盘盖加热功能，通过改变盘面及盘盖温度可改善光刻胶结构，再进行显影工艺得到要求的截面结构，与现有技术相比，该方法在曝光后烘烤工艺中，保留盘面加热基础上增加盘盖加热功能；盘盖和盘面同时进行加热，通过控制盘面温度及盘盖温度来控制显影后光刻胶的线宽、光刻胶膜厚及截面形貌，在保证线宽、光刻胶膜厚及形貌的前提下增强了光刻胶顶端结构强度。
主权项：1.一种改善lift-off制程中显影截面光刻胶结构的方法，其特征在于：该方法针对晶圆上涂敷负胶并曝光显影后的光刻胶结构进行改善，具体包括如下步骤：1晶圆涂覆光刻胶；2晶圆前烘处理；3晶圆图形曝光；4晶圆边缘曝光；5曝光后烘烤：采用烘烤装置对晶圆进行加热，所述烘烤装置包括用于容纳晶圆的烘烤腔室，所述烘烤腔室包括盘面和盘盖，所述盘面和盘盖分别设于晶圆下方和晶圆上方并同时对晶圆进行加热；6显影。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 一种改善lift-off制程中显影截面光刻胶结构的方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号