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CDA控制真空阀门的控制装置 

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申请/专利权人:上海至纯半导体设备有限公司

摘要:本实用新型公开了CDA控制真空阀门的控制装置,包括装置本体,所述装置本体包括阀体、压力仓、空气压缩装置、压力流量调节装置、进气管和出气管,所述压力仓安装在阀体顶部,所述空气压缩装置安装在压力仓顶部,所述压力流量调节装置安装在空气压缩装置内,所述进气管安装在阀体左端,所述出气管安装在阀体右端;所述压力流量调节装置包括阀板、连接杆和压力板,所述连接杆安装在阀板顶部,所述阀板位于阀体内部,所述压力板安装在连接杆顶部,所述阀板表面包裹有橡胶密封垫。该种装置可以十分便捷对阀体内流量的大小进行调节,从而提高对阀体内流量调节的简便性和流量调节的精准度。

主权项:1.CDA控制真空阀门的控制装置,其特征在于:包括装置本体1,所述装置本体1包括阀体2、压力仓3、空气压缩装置4、压力流量调节装置5、进气管6和出气管7,所述压力仓3安装在阀体2顶部,所述空气压缩装置4安装在压力仓3顶部,所述压力流量调节装置5安装在空气压缩装置4内,所述进气管6安装在阀体2左端,所述出气管7安装在阀体2右端;所述压力流量调节装置5包括阀板9、连接杆10和压力板11,所述连接杆10安装在阀板9顶部,所述阀板9位于阀体2内部,所述压力板11安装在连接杆10顶部,所述阀板9表面包裹有橡胶密封垫14。

全文数据:

权利要求:

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