首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

【发明授权】一种Fe3O4/SiCnw/Si3N4复合吸波陶瓷及其制备方法_中国科学院上海硅酸盐研究所_202211524188.0 

申请/专利权人:中国科学院上海硅酸盐研究所

申请日:2022-11-30

公开(公告)日:2023-12-08

公开(公告)号:CN115849948B

主分类号:C04B38/06

分类号:C04B38/06;C04B35/593;C04B35/622;C04B41/89;H05K9/00

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2023.12.08#授权;2023.04.14#实质审查的生效;2023.03.28#公开

摘要:本发明涉及一种Fe3O4SiCnwSi3N4复合吸波陶瓷及其制备方法。所述Fe3O4SiCnwSi3N4复相陶瓷吸波材料包括:多孔氮化硅基体,以及原位生长在多孔氮化硅基体中孔结构的SiC纳米线和Fe3O4纳米颗粒;所述SiC纳米线占多孔氮化硅基体质量的5~25wt%;所述Fe3O4纳米颗粒占多孔氮化硅基体质量的2~20wt%。

主权项:1.一种Fe3O4SiCnwSi3N4复相陶瓷吸波材料,其特征在于,包括:多孔氮化硅基体,以及原位生长在多孔氮化硅基体中孔结构的SiC纳米线和Fe3O4纳米颗粒;所述多孔氮化硅基体的孔隙率为45~70%,孔径为5~50μm;所述SiC纳米线的直径为50~300nm,长度为5~40μm;所述SiC纳米线占多孔氮化硅基体质量的5~25wt%;所述Fe3O4纳米颗粒的粒径为50~400nm;所述Fe3O4纳米颗粒占多孔氮化硅基体质量的2~20wt%;所述的Fe3O4SiCnwSi3N4复相陶瓷吸波材料的制备方法包括:1将多孔氮化硅基体真空浸渍于聚碳硅烷PCS溶液中,再经交联固化、裂解和热处理,得到SiCnwSi3N4复相陶瓷;2将SiCnwSi3N4复相陶瓷真空浸渍于铁源前驱体溶液中,取出后再浸泡在氨水中进行超声反应;3重复步骤2至少1次,得到所述Fe3O4SiCnwSi3N4复相陶瓷吸波材料。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学院上海硅酸盐研究所 一种Fe3O4/SiCnw/Si3N4复合吸波陶瓷及其制备方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

<相关技术