申请/专利权人：元平台技术有限公司

申请日：2022-10-21

公开（公告）日：2024-04-26

公开（公告）号：CN117940275A

主分类号：B29D11/00

分类号：B29D11/00;B33Y10/00;B33Y80/00

优先权：["20211021 EP 21203898.8"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.05.14#实质审查的生效;2024.04.26#公开

摘要：提出了一种用于生产光学结构1、特别是透镜结构的方法，该光学结构1包括基底2、光学层4以及布置在基底2和光学层4之间的缓冲层3，其中该方法至少包括以下步骤：在第一步骤中，提供基底2，在第二步骤中，将缓冲层3打印在基底2上，在第三步骤中，将光学层4打印在缓冲层3的至少部分上，其中缓冲层3包括预定且优选的非均匀厚度。

主权项：1.一种用于生产光学结构1的方法，所述光学结构1特别是透镜结构，所述光学结构1包括基底2、光学层4以及布置在所述基底2和所述光学层4之间的缓冲层3，其中，所述方法至少包括以下步骤：在第一步骤中，提供所述基底2，在第二步骤中，将所述缓冲层3打印在所述基底2上，在第三步骤中，将所述光学层4打印在所述缓冲层3的至少部分上，其中，所述缓冲层3包括预定且优选的非均匀厚度。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 元平台技术有限公司 用于生产光学结构的方法及光学结构

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