申请/专利权人：上海镭望光学科技有限公司

申请日：2022-09-05

公开（公告）日：2024-04-26

公开（公告）号：CN115542679B

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.26#授权;2023.01.20#实质审查的生效;2022.12.30#公开

摘要：调制板透过率分布生成方法，调制板及光刻机照明系统，其中，方法包括步骤：S100：根据预设标准尺寸的平顶高斯照明光场构建沿扫描方向的一维光场分布轮廓I0；S200：将目标平顶高斯照明光场转换成沿扫描方向的一维光场分布轮廓Iin，并判断光场分布轮廓Iin是否符合预设标准尺寸的分布轮廓，若不符合，执行步骤S300，若符合，执行步骤S500；S300：根据光场分布轮廓I0和光场分布轮廓Iin计算调制板的初始透过率分布T0；S400：基于能量损失率对初始透过率分布T0进行优化分析，获得符合要求的透过率分布；S500：将符合要求的透过率分布扩展为二维透过率分布，形成具有二维透过率分布的调制板。调制板能够实现对光刻机照明光场轮廓尺寸精密校正、且达到能量损失最小。

主权项：1.一种用于调制光场分布强度的调制板透过率分布生成方法，其特征在于，包括步骤：S100：根据预设标准尺寸的平顶高斯照明光场构建沿扫描方向的一维光场分布轮廓I0；S200：将目标平顶高斯照明光场转换成沿扫描方向的一维光场分布轮廓Iin，并判断光场分布轮廓Iin是否符合预设标准尺寸的分布轮廓，若不符合，执行步骤S300，若符合，执行步骤S500；S300：根据光场分布轮廓I0和光场分布轮廓Iin计算调制板的初始透过率分布T0；S400：基于能量损失率对所述初始透过率分布T0进行优化分析，获得符合要求的透过率分布；S500：将符合要求的透过率分布扩展为二维透过率分布，形成具有二维透过率分布的调制板。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海镭望光学科技有限公司 调制板透过率分布生成方法、调制板及光刻机照明系统

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