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ATRP法合成的光响应嵌段聚合物及其制备方法和应用 

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申请/专利权人:佳化化学科技发展(上海)有限公司;上海抚佳精细化工有限公司

摘要:本发明属于光响应材料制备技术领域,具体涉及一种ATRP法合成的光响应嵌段聚合物及其制备方法和应用。该嵌段聚合物分子量分布窄,可以在纯水体系中形成纳米级的球形胶束聚集体材料,尺寸为30~600nm,分布均匀,形态均一,可以承载油溶性分子,能够长期稳定存在。通过调节紫外线辐照,形成的球形聚集体材料被解离破坏,实现缓控释放,该聚集体材料具有紫外光响应特性。本发明提供的嵌段聚合物可以广泛应用于生物医药、农药、化学催化和合成等光控缓释等领域。

主权项:1.一种嵌段聚合物,其特征在于,具有如下结构式, ,其中,n为15~300,y为10~50,z为30~80;R1选自H、取代或未取代的C1~C12的烷基;R2选自取代或未取代的C1~C8的烷基;R3选自取代或未取代的C1~C10烷基、取代或未取代的C6~C10的芳基;R4是H或CH3;R5是H或CH3;X是卤素原子。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 佳化化学科技发展(上海)有限公司 上海抚佳精细化工有限公司 ATRP法合成的光响应嵌段聚合物及其制备方法和应用

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