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【发明公布】一种日盲紫外光电忆阻器件及其制备方法_福建农林大学_202410090203.8 

申请/专利权人:福建农林大学

申请日:2024-01-22

公开(公告)日:2024-05-07

公开(公告)号:CN117998979A

主分类号:H10N70/00

分类号:H10N70/00;H10N70/20

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.05.24#实质审查的生效;2024.05.07#公开

摘要:本发明公开了一种日盲紫外光电忆阻器件及其制备方法;该日盲紫外光电忆阻器件包括:衬底、过渡层、底电极、日盲紫外光响应阻变层与顶电极;所述过渡层设置于衬底与底电极之间,用于加强底电极与衬底的粘结性;所述日盲紫外光响应阻变层设置于底电极上,所述日盲紫外光响应阻变层对波长为200‑280nm的日盲紫外光具有光响应;所述顶电极,均匀设置于日盲紫外光响应阻变层上。在预设电激励与或日盲紫外光激励的作用下,可实现日盲紫外光电忆阻器件的高、低阻态转变。

主权项:1.一种日盲紫外光电忆阻器件,其特征在于,在预设电激励与或日盲紫外光激励的作用下,实现日盲紫外光电忆阻器件的高、低阻态转变;所述日盲紫外光电忆阻器件包括:衬底1、过渡层2、底电极3、日盲紫外光响应阻变层4与顶电极5;所述过渡层2设置于衬底1与底电极3之间,用于加强底电极3与衬底1的粘结性;所述日盲紫外光响应阻变层4设置于底电极3上,所述日盲紫外光响应阻变层4对波长为200-280nm的日盲紫外光具有光响应;所述顶电极5,均匀设置于日盲紫外光响应阻变层4上。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 福建农林大学 一种日盲紫外光电忆阻器件及其制备方法

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