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【发明公布】一种防红外激光窃听和电磁信息泄漏防护膜及其应用_北京至诚安邦信息技术有限公司_202410397820.2 

申请/专利权人:北京至诚安邦信息技术有限公司

申请日:2024-04-03

公开(公告)日:2024-06-04

公开(公告)号:CN118139400A

主分类号:H05K9/00

分类号:H05K9/00;G02B1/10;G02B5/20;G02B5/22

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.06.21#实质审查的生效;2024.06.04#公开

摘要:本发明提供一种防红外激光窃听和电磁信息泄漏防护膜,包括第一红外吸收层、电磁屏蔽层和第二红外吸收层。本发明利用ITO材料对1200nm以上的红外光具有较好的吸收能力,而铯钨青铜材料在900‑1200nm近红外区域的吸收性能远比ITO强,对近红外进行非常好的吸收。两种镀层组合可以实现900‑2500nm红外光超过阻隔率。采用ITO加铯钨青铜组合方式提高红外吸收波长覆盖范围,同时坡莫合金对红外具有较强的反射率,而将坡莫合金镀层夹在两种红外吸收材料之间可以极大地吸收坡莫合金表面的红外反射光,降低整体薄膜的红外反射率,从而降低信息泄漏风险。通过采用坡莫合金提供载流子,在提高高频电磁屏蔽效能同时,因为坡莫合金的磁导率高,能够有效的在提高在低频电磁屏蔽效能。

主权项:1.一种防红外激光窃听和电磁信息泄漏防护膜,其特征在于:包括依次叠层设置第一红外吸收层1、电磁屏蔽层2和第二红外吸收层3。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 北京至诚安邦信息技术有限公司 一种防红外激光窃听和电磁信息泄漏防护膜及其应用

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