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申请/专利权人：艾克斯特朗欧洲公司
申请日：2019-12-02
公开（公告）日：2024-06-04
公开（公告）号：CN113166940B
主分类号：C23C16/455
分类号：C23C16/455;C23C16/30
优先权：["20181204 DE 102018130859.0"]
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.04#授权;2021.12.07#实质审查的生效;2021.07.23#公开
摘要：本发明涉及一种CVD反应器1，包括：能被加热装置4加热到处理温度的用于容纳待处理的基板3的基座2，用于将处理气体导入布置在遮盖进气机构5的出气面9’的透气的屏蔽板10与基座2之间的处理室12的进气机构5。按本发明建议，屏蔽板10的边缘区域19被支撑环20这样地支撑，使得支撑面位于基座2的侧壁27外部。
主权项：1.一种CVD反应器1，包括：能被加热装置4加热到处理温度的用于容纳待处理的基板3的基座2；进气机构5，所述进气机构5与被液态冷却剂冷却的入口板9一起构成出气面9'；和布置在出气面9'和处理室12之间的透气的屏蔽板10，所述屏蔽板10用于将处理气体导入布置在遮盖出气面9'的屏蔽板10与基座2之间的处理室12中，其中，由石墨、涂层的石墨或石英构成的屏蔽板10的边缘区域19被支撑环20支撑，其中，所述支撑环20借助固定元件22固定在所述进气机构5上或反应器盖上。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 艾克斯特朗欧洲公司 具有被屏蔽板装置遮盖的进气机构的CVD反应器
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