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【发明公布】用于预测分子修饰的方法、介质和系统_沃特世科技爱尔兰有限公司_202280055836.4 

申请/专利权人:沃特世科技爱尔兰有限公司

申请日:2022-06-17

公开(公告)日:2024-06-07

公开(公告)号:CN118160041A

主分类号:G16B40/10

分类号:G16B40/10;G16B45/00

优先权:["20210618 US 63/212300"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.07#公开

摘要:本文所述的示例性实施方案提供了用于在对分子的片段建模时识别和说明分子变体的改进技术。该变体可通过将分子片段的可能的修饰与实验数据进行比较以对可能的修饰进行分级或评分来识别。可能的修饰可以在变体界面中示出,其中修饰可被选择作为用于与实验数据进行比较的候选。

主权项:1.一种计算机实现的方法,所述方法包括:接收表示将分子片段化成多个实验片段的输入数据;将所述片段化与建模片段化的库进行比较以识别包括多个建模片段的候选匹配;识别所述建模片段中的所选建模片段能够支持修饰;以及显示所述候选匹配的图形表示,所述图形表示包括对应于所述建模片段中每一者的图形元素,其中对应于所述建模片段中的所选建模片段的图形元素包括变体指示标识,该变体指示标识在视觉上将所述建模片段中的所选建模片段与不能支持所述修饰的建模片段区分开。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 沃特世科技爱尔兰有限公司 用于预测分子修饰的方法、介质和系统

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