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申请/专利权人：北京市燕京药业有限公司

摘要：本发明涉及光化学降解技术领域，更具体的公开了一种光化学降解药厂污染性气体的装置及其使用方法，包括外壳组件，所述外壳组件包括装置外壳，装置外壳的内部从上至下依次开设有进气腔、反应腔、吸附腔与循环腔，装置外壳的顶部安装有端盖，端盖的底部安装有伸缩组件，端盖的顶部开设有进气口，所述进气腔内部位于伸缩组件的底部安装有隔离清洁架；本发明通过设有清洁刮板，有利于在密封板下降时清洁刮板会将二氧化钛环内壁表面形成的水珠进行清理，形成被动清理，在反应结束后伸缩组件控制密封板下降与上升移动的过程中，清洁刮板对二氧化钛环的内壁进行主动清理，使得的内壁始终保持较高的光洁度，具有较高的反应催化作用。

主权项：1.一种光化学降解药厂污染性气体的装置，包括外壳组件（1），其特征在于：所述外壳组件（1）包括装置外壳（101），装置外壳（101）的内部从上至下依次开设有进气腔（102）、反应腔（103）、吸附腔（108）与循环腔（109），装置外壳（101）的顶部安装有端盖，端盖的底部安装有伸缩组件（2），端盖的顶部开设有进气口（112），所述进气腔（102）内部位于伸缩组件（2）的底部安装有隔离清洁架（3），所述反应腔（103）的内壁安装有二氧化钛环（6），反应腔（103）内部位于二氧化钛环（6）的底部开设有支撑槽（105），支撑槽（105）的内部安装有灯固定架（4），所述灯固定架（4）的顶部安装有LED灯（5），所述装置外壳（101）内部位于反应腔（103）底部开设有锥形孔，锥形孔的底部开设有过滤槽（106），过滤槽（106）的内部安装有过滤板（7），锥形孔的侧面开设有出气口（113），吸附腔（108）的底部开设有单向滤套（107），单向滤套（107）的内部安装有单向气组件（8），所述循环腔（109）的底部开设有传动孔（111），循环腔（109）的侧面开设有多个循环下孔（110），循环下孔（110）的外侧安装有循环气管（12），所述循环气管（12）的两端分别安装在循环上孔（104）与循环下孔（110）上，所述循环腔（109）的内部安装有传动组件（9），传动组件（9）包括第一电机（901）与扇叶（902），扇叶（902）的启停由控制模块进行控制；所述装置外壳（101）的内部安装有控制组件，所述控制组件包括检测模块、控制模块与显示模块，所述检测模块包括位移检测单元与压力检测单元，所述压力检测单元包括压力传感器，压力传感器安装在气压弹簧（205）的侧面，用于收集气压弹簧（205）在上升与下降时的压力参数，所述位移检测单元包括位移传感器，位移传感器安装在密封板（301）的内部，用于检测密封板（301）在进气腔（102）内部的移动位置，位移检测单元在进气腔（102）的内部标定三个定点，三个定点分别为顶点、中点与低点，其中中点为中部位置标定点，非上下对称中点，在吸气阶段，伸缩组件（2）控制密封板（301）上升，上升的终点为顶点，在反应阶段，反应腔（103）为密闭空间时，内部气体完全反应并吸收后密封板（301）的移动终点为中点，在排气阶段，伸缩组件（2）控制隔离清洁架（3）的下降终点为低点，所述位移传感器通过检测密封板（301）与三个定位的相对位置信息对控制模块传输相关参数，相关参数包括移动时间与移动位置，在移动时间较长且压力值最大值达到阈值时检测模块形成第一判断信息，在移动时间较长且反应结束后密封板（301）无法到达中点位置时检测模块形成第二判断信息。

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