龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
申请/专利权人：上海镭望光学科技有限公司
申请日：2024-03-19
公开（公告）日：2024-06-11
公开（公告）号：CN118169892A
主分类号：G02B27/09
分类号：G02B27/09;G02B27/00;G03F7/20
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.06.28#实质审查的生效;2024.06.11#公开
摘要：产生平顶高斯分布光场的光学组件设计方法及光学组件，光学组件包括第一光学基底、第二光学基底和第三光学基底，设计方法包括步骤：对第一光学基底、第二光学基底和第三光学基底的入光表面和出光表面分别设计，第一光学基底入光表面降低第二光学基底中聚焦位置处的能量密度；第一光学基底出光表面和第二光学基底入光表面配合提供X方向的均匀化光场；第二光学基底出光表面和第三光学基底入光表面配合提供Y方向的均匀化光场；第三光学基底出光表面提供Y方向的高斯分布光场轮廓。设计的光学组件能够产生平顶高斯分布光场，降低能量密度，结构紧凑，易于加工，两光学基底间的距离可调，适用加工装调的需要，能灵活调整等效焦距，调控光场尺寸。
主权项：1.一种产生平顶高斯分布光场的光学组件设计方法，其特征在于，所述光学组件包括第一光学基底、第二光学基底和第三光学基底，所述光学组件设计方法包括步骤：设计所述第一光学基底入光表面，设计的第一光学基底入光表面降低第二光学基底中聚焦位置处的能量密度；设计所述第一光学基底出光表面和第二光学基底入光表面，设计的第一光学基底出光表面和第二光学基底入光表面配合提供X方向的均匀化光场；设计所述第二光学基底出光表面和第三光学基底入光表面，设计的第二光学基底出光表面和第三光学基底入光表面配合提供Y方向的均匀化光场；设计所述第三光学基底出光表面，设计的第三光学基底出光表面提供Y方向的高斯分布光场轮廓。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海镭望光学科技有限公司 产生平顶高斯分布光场的光学组件设计方法及光学组件
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号