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申请/专利权人：苏州共进微电子技术有限公司
摘要：本发明涉及半导体技术领域，具体而言，涉及一种保护溶液涂覆设备及其清洗方法；保护溶液涂覆设备包括：存储容器、喷嘴机构和清洗机构，存储容器用于存储保护溶液；喷嘴机构包括输液管道和连接于输液管道的一端的喷嘴，输液管道的另一端与存储容器连接；清洗机构包括水源组件和气源组件，水源组件和气源组件均通过输液管道与喷嘴连接；其中，水源组件被配置为能向喷嘴输送清洗液，气源组件被配置为能向喷嘴输送气体。本发明的保护溶液涂覆设备能够在一次涂覆之后清洗喷嘴，以改善喷嘴被硬化结块堵住，而导致后续的涂覆不均匀的问题，还可以改善下一次涂覆时硬块喷涂到晶圆上，导致产品不合格的问题。
主权项：1.一种保护溶液涂覆设备，其特征在于，包括：存储容器100，所述存储容器100用于存储保护溶液；喷嘴机构200，所述喷嘴机构200包括输液管道210和连接于所述输液管道210的一端的喷嘴220，所述输液管道210的另一端与所述存储容器100连接；以及，清洗机构300，所述清洗机构300包括水源组件310和气源组件320，所述水源组件310和所述气源组件320均通过所述输液管道210与所述喷嘴220连接；其中，所述水源组件310被配置为能向所述喷嘴220输送清洗液，所述气源组件320被配置为能向所述喷嘴220输送气体。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 苏州共进微电子技术有限公司 保护溶液涂覆设备及其清洗方法
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