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申请/专利权人：深圳清溢光电股份有限公司
申请日：2023-10-20
公开（公告）日：2024-06-14
公开（公告）号：CN221149137U
主分类号：G03F1/84
分类号：G03F1/84
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.14#授权
摘要：本实用新型公开了一种IC掩膜版CD测量机，包括固定底架、花岗岩基座、XY轴精密中空平台、电气控制系统、透射光源系统、Z轴支架、Z轴精密模组、显微成像系统、主动式隔振机构。本实用新型所提出的一种IC掩膜版CD测量机，实现了对于IC掩膜版的测量，设备最小可测量线缝宽度为0.4um,测量精度与重复精度可达5nm，可兼容多尺寸掩膜版，整机外形尺寸较小，可节省无尘室的宝贵空间。
主权项：1.一种IC掩膜版CD测量机，包括固定底架、花岗岩基座、XY轴精密中空平台、电气控制系统、透射光源系统、Z轴支架、Z轴精密模组、显微成像系统、主动式隔振机构；其特征在于：花岗岩基座整体呈立方体状，其中部开有中空槽；主动式隔振机构托举花岗岩基座的四角，可隔离周围环境的影响，在高倍显微镜下，图像清晰不抖动；XY轴精密中空平台固定设置在花岗岩基座的水平安装面上、位于中空槽正上方；XY轴精密中空平台用于对于MASK的固定及位置调整；Z轴支架固定设置在花岗岩基座上，Z轴精密模组固定设置在Z轴支架的内侧，显微成像系统通过Z轴精密模组驱动，实现在Z轴上的精密移动；显微成像系统用于对MASK的图像采集，并配合机器视觉软件测量系统进行界面显示与CD测量操作；电气控制系统、透射光源系统分别固定设置在固定底架上，透射光源系统位于中空槽的正下方；透射光源系统，用于向MASK提供均匀性照明光源；电气控制系统，用于控制透射光源系统、XY轴精密中空平台、Z轴精密模组。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 深圳清溢光电股份有限公司 一种IC掩膜版CD测量机
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