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申请/专利权人：美可隆半导体(苏州)有限公司
申请日：2023-12-13
公开（公告）日：2024-06-21
公开（公告）号：CN221198355U
主分类号：G01B11/30
分类号：G01B11/30;G01N21/01
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.21#授权
摘要：本实用新型涉及光刻掩膜版技术领域，且公开了一种光刻掩膜版基版平面度检测仪，具备调节性强的优点，利用检测组件对其平面度进行检测：启动液压机，液压机推动横架沿着光轴上下移动，根据光刻掩膜版的大小调整好横架的高度后，启动电机一，电机一带动丝杆一转动，丝杆一上螺纹连接的螺纹块一带动其底部的移动架前后移动，此时检测仪对光刻掩膜版表面进行前后移动式的激光检测，此装置还可根据光刻掩膜版的长度利用左右调节机构对检测仪的左右位置进行调节，防止出现检测仪因光刻掩膜版较长，前后移动后检测的范围不够大的现象，解决了平面度检测仪无法根据光刻掩膜版的大小调整摄像机的拍摄范围，从而影响检测准确性的问题。
主权项：1.一种光刻掩膜版基版平面度检测仪，其特征在于：包括外部框架（1），所述外部框架（1）包括：底座（11），其顶部设置有检测组件（2），所述检测组件（2）包括：光轴（21），对称设置于所述底座（11）顶部；支架（22），设置于所述底座（11）顶部；液压机（23），设置于所述支架（22）横部底面；横架（24），设置于所述液压机（23）底部，并且其四角被所述光轴（21）贯穿并滑动连接于所述光轴（21）外部；前后调节机构（25），设置于所述横架（24）底部；左右调节机构（26），设置于所述前后调节机构（25）底部。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 美可隆半导体(苏州)有限公司 一种光刻掩膜版基版平面度检测仪
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