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申请/专利权人：北京信息科技大学
申请日：2024-04-19
公开（公告）日：2024-06-18
公开（公告）号：CN118204641A
主分类号：B23K26/362
分类号：B23K26/362;B23K26/70
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.18#公开
摘要：本发明提供一种基于高速激光雕刻技术的柔性热流陀螺的制作方法，该方法使用一种新的工艺流程，新的流程是先用高速激光雕刻机以聚酰亚胺薄膜为掩膜，雕刻出热流陀螺的电极部分敏感丝结构，再将这层掩膜贴在相应的聚酰亚胺基底上，进行溅射。本发明采用高速激光雕刻技术，这种技术高速激光雕刻技术是一种非接触性加工技术，它使用激光束直接照射到工件表面，而无需接触式掩膜或光刻胶等材料。本申请降低了制造过程中的污染风险和机械损耗，简化了加工过程，减少了材料和时间成本。
主权项：1.一种基于高速激光雕刻技术的柔性热流陀螺的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：S1：选取亚克力板整面作为模板层，用激光雕刻机雕刻出陀螺尺寸大小的若干整体镂空的方形夹具；S2：将聚酰亚胺薄膜紧密地贴在亚克力板模板层上整体作为第一基底层，使方形夹具处悬空；S3：用激光雕刻在第一基底层方形夹具处雕刻出陀螺敏感结构图案，并以方形夹具大小整体切割作为后续掩膜层；S4：选取聚酰亚胺薄膜，对其依次用丙酮、无水乙醇、去离子水超声清洗其进行清洗，然后用氮气将薄膜吹干放进高温烘箱烘烤使其干燥，并进行固定，作为第二基底层；S5：将掩膜层沾在聚酰亚胺薄膜第二基底层上，然后依次进行Cr、Pt、Au的溅射；S6：用镊子将掩膜层轻轻剥离，然后用无水乙醇反复清洗，得到聚酰亚胺第二基底层上的陀螺敏感结构图案；S7：选取聚酰亚胺薄膜继续贴在第一基底层上整体作为第三基底层；S8：用激光雕刻在第三基底层方形夹具处雕刻出上盖的腔体，并以方形夹具大小整体切割作为上盖层；S9：将上盖层用胶水密封在第二基底层的陀螺敏感结构图案上，形成陀螺结构。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京信息科技大学 一种基于高速激光雕刻技术的柔性热流陀螺的制作方法
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